光谱实验室
光譜實驗室
광보실험실
CHINESE JOURNAL OF SPECTROSCOPY LABORATORY
2011年
6期
2930-2933
,共4页
周光强%高建峰%杨丽娜%孙中战
週光彊%高建峰%楊麗娜%孫中戰
주광강%고건봉%양려나%손중전
聚硅氧烷%偶氮苯%液晶%光致变色性
聚硅氧烷%偶氮苯%液晶%光緻變色性
취규양완%우담분%액정%광치변색성
通过重氮化反应合成了末端为磺酸基的刚性基元,再经过取代、加成、酯化反应最终合成了偶氮苯类聚硅氧烷液晶.通过UV表明其具有类似小分子的光致变性.并用POM、DSC对其液晶行为进行了表征,结果表明该化合物属于近晶A型液晶,相变区间为191.04-274.95℃,液晶范围较宽,有望作为光控开关和新型信息存储材料.
通過重氮化反應閤成瞭末耑為磺痠基的剛性基元,再經過取代、加成、酯化反應最終閤成瞭偶氮苯類聚硅氧烷液晶.通過UV錶明其具有類似小分子的光緻變性.併用POM、DSC對其液晶行為進行瞭錶徵,結果錶明該化閤物屬于近晶A型液晶,相變區間為191.04-274.95℃,液晶範圍較寬,有望作為光控開關和新型信息存儲材料.
통과중담화반응합성료말단위광산기적강성기원,재경과취대、가성、지화반응최종합성료우담분류취규양완액정.통과UV표명기구유유사소분자적광치변성.병용POM、DSC대기액정행위진행료표정,결과표명해화합물속우근정A형액정,상변구간위191.04-274.95℃,액정범위교관,유망작위광공개관화신형신식존저재료.
