人工晶体学报
人工晶體學報
인공정체학보
2011年
3期
563-566
,共4页
娄有信%王继扬%张怀金%李强
婁有信%王繼颺%張懷金%李彊
루유신%왕계양%장부금%리강
铜单晶%提拉法%晶体生长%晶体缺陷
銅單晶%提拉法%晶體生長%晶體缺陷
동단정%제랍법%정체생장%정체결함
采用提拉法生长出大尺寸(111)铜单晶,晶体尺寸为ф(12～19)mm×85 mm.通过XRD、金相显微分析讨论了铜单晶的晶体结构与生长缺陷,并采用双臂电桥测定(111)铜单晶的电阻率.结果表明:晶体具有(111)取向、强度高,表明晶体取向良好;蚀坑呈典型三角锥形,位错密度在105～106 cm-2之间;在室温下,(111)铜单晶电阻率为1.289×10-8Ω·m.
採用提拉法生長齣大呎吋(111)銅單晶,晶體呎吋為ф(12～19)mm×85 mm.通過XRD、金相顯微分析討論瞭銅單晶的晶體結構與生長缺陷,併採用雙臂電橋測定(111)銅單晶的電阻率.結果錶明:晶體具有(111)取嚮、彊度高,錶明晶體取嚮良好;蝕坑呈典型三角錐形,位錯密度在105～106 cm-2之間;在室溫下,(111)銅單晶電阻率為1.289×10-8Ω·m.
채용제랍법생장출대척촌(111)동단정,정체척촌위ф(12～19)mm×85 mm.통과XRD、금상현미분석토론료동단정적정체결구여생장결함,병채용쌍비전교측정(111)동단정적전조솔.결과표명:정체구유(111)취향、강도고,표명정체취향량호;식갱정전형삼각추형,위착밀도재105～106 cm-2지간;재실온하,(111)동단정전조솔위1.289×10-8Ω·m.
