光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2004年
10期
24-27
,共4页
成像干涉光刻%空间频率%频域分析
成像榦涉光刻%空間頻率%頻域分析
성상간섭광각%공간빈솔%빈역분석
传统光学光刻技术(OL)由于其固有的限制,虽然可对任意图形成像,但分辨力较低.无掩模激光干涉光刻技术(IL)的分辨力可达λ/4,却局限于周期图形.成像干涉光刻技术(IIL)结合了二者的优点,用同一个系统分次传递物体不同的空间频率,能更有效地传递物体的信息,以高分辨力对任意图形成像.初步模拟研究表明,在同样的曝光波长和数值孔径下,对同样特征尺寸的掩模图形,IIL得到的结果好于OL.在CD=150nm时,IIL相对于OL把分辨力提高了1.5倍多.
傳統光學光刻技術(OL)由于其固有的限製,雖然可對任意圖形成像,但分辨力較低.無掩模激光榦涉光刻技術(IL)的分辨力可達λ/4,卻跼限于週期圖形.成像榦涉光刻技術(IIL)結閤瞭二者的優點,用同一箇繫統分次傳遞物體不同的空間頻率,能更有效地傳遞物體的信息,以高分辨力對任意圖形成像.初步模擬研究錶明,在同樣的曝光波長和數值孔徑下,對同樣特徵呎吋的掩模圖形,IIL得到的結果好于OL.在CD=150nm時,IIL相對于OL把分辨力提高瞭1.5倍多.
전통광학광각기술(OL)유우기고유적한제,수연가대임의도형성상,단분변력교저.무엄모격광간섭광각기술(IL)적분변력가체λ/4,각국한우주기도형.성상간섭광각기술(IIL)결합료이자적우점,용동일개계통분차전체물체불동적공간빈솔,능경유효지전체물체적신식,이고분변력대임의도형성상.초보모의연구표명,재동양적폭광파장화수치공경하,대동양특정척촌적엄모도형,IIL득도적결과호우OL.재CD=150nm시,IIL상대우OL파분변력제고료1.5배다.
