金属学报
金屬學報
금속학보
ACTA METALLURGICA SINICA
2005年
9期
985-988
,共4页
郭岩%畅庚榕%马胜利%徐可为
郭巖%暢庚榕%馬勝利%徐可為
곽암%창경용%마성리%서가위
Ti-Si-C-N%PCVD%纳米复合薄膜%微观结构
Ti-Si-C-N%PCVD%納米複閤薄膜%微觀結構
Ti-Si-C-N%PCVD%납미복합박막%미관결구
用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法,在高速钢试样表面沉积出一种新型Ti-Si-C-N薄膜材料.研究了不同SiCl4流量对薄膜成分、微观组织形貌以及薄膜晶体结构的影响.X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)分析结果表明:Ti-Si-C-N薄膜是由Ti(C,N)/a-C/a-Si3N4组成的纳米复合结构,薄膜的晶粒尺寸在2-25 nm范围内;当Ti-Si-C-N薄膜中N含量很少时,Ti(C,N)结构转变为TiC,薄膜的表面形貌由颗粒状转变为粗条状.
用脈遲直流等離子體增彊化學氣相沉積(PCVD)方法,在高速鋼試樣錶麵沉積齣一種新型Ti-Si-C-N薄膜材料.研究瞭不同SiCl4流量對薄膜成分、微觀組織形貌以及薄膜晶體結構的影響.X射線衍射(XRD)、X射線光電子能譜(XPS)、透射電子顯微鏡(TEM)和掃描電子顯微鏡(SEM)分析結果錶明:Ti-Si-C-N薄膜是由Ti(C,N)/a-C/a-Si3N4組成的納米複閤結構,薄膜的晶粒呎吋在2-25 nm範圍內;噹Ti-Si-C-N薄膜中N含量很少時,Ti(C,N)結構轉變為TiC,薄膜的錶麵形貌由顆粒狀轉變為粗條狀.
용맥충직류등리자체증강화학기상침적(PCVD)방법,재고속강시양표면침적출일충신형Ti-Si-C-N박막재료.연구료불동SiCl4류량대박막성분、미관조직형모이급박막정체결구적영향.X사선연사(XRD)、X사선광전자능보(XPS)、투사전자현미경(TEM)화소묘전자현미경(SEM)분석결과표명:Ti-Si-C-N박막시유Ti(C,N)/a-C/a-Si3N4조성적납미복합결구,박막적정립척촌재2-25 nm범위내;당Ti-Si-C-N박막중N함량흔소시,Ti(C,N)결구전변위TiC,박막적표면형모유과립상전변위조조상.
