高分子学报
高分子學報
고분자학보
ACTA POLYMERICA SINICA
2006年
3期
474-478
,共5页
徐景坤%魏振宏%侯健%蒲守智
徐景坤%魏振宏%侯健%蒲守智
서경곤%위진굉%후건%포수지
聚吲哚%聚(N-甲基吲哚)%电化学合成%三氟化硼乙醚%荧光光谱
聚吲哚%聚(N-甲基吲哚)%電化學閤成%三氟化硼乙醚%熒光光譜
취신타%취(N-갑기신타)%전화학합성%삼불화붕을미%형광광보
在三氟化硼乙醚(BFEE)溶液中N-甲基吲哚可以阳极氧化聚合生成聚(N-甲基吲哚).单体在BFEE中的起始氧化电位为0.95 V,远低于单体在CH3CN+0.1 mol/L Bu4NBF4体系中的起始氧化电位(1.23 V).BFEE中获得的聚(N-甲基吲哚)膜具有良好的电化学性质和荧光性质.红外光谱表明聚合反应发生在2,3位.
在三氟化硼乙醚(BFEE)溶液中N-甲基吲哚可以暘極氧化聚閤生成聚(N-甲基吲哚).單體在BFEE中的起始氧化電位為0.95 V,遠低于單體在CH3CN+0.1 mol/L Bu4NBF4體繫中的起始氧化電位(1.23 V).BFEE中穫得的聚(N-甲基吲哚)膜具有良好的電化學性質和熒光性質.紅外光譜錶明聚閤反應髮生在2,3位.
재삼불화붕을미(BFEE)용액중N-갑기신타가이양겁양화취합생성취(N-갑기신타).단체재BFEE중적기시양화전위위0.95 V,원저우단체재CH3CN+0.1 mol/L Bu4NBF4체계중적기시양화전위(1.23 V).BFEE중획득적취(N-갑기신타)막구유량호적전화학성질화형광성질.홍외광보표명취합반응발생재2,3위.
