抗蚀剂AZ4562曝光参数的变化趋势分析
항식제AZ4562폭광삼수적변화추세분석
Trend Aanlysis of Variable Exposure Parameters on Photoresist AZ4562
  • 万方数据
    固体电子学研究与进展 고체전자학연구여진전
    RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
    2006年 4期 550-554 ,共5页

    罗铂靓%杜惊雷%刘世杰%郭小伟%马延琴%陈铭勇%杜春雷%郭永康

    라박정%두량뢰%류세걸%곽소위%마연금%진명용%두춘뢰%곽영강

    厚层抗蚀剂%曝光模型%曝光参数%趋势面分析法 厚層抗蝕劑%曝光模型%曝光參數%趨勢麵分析法
    후층항식제%폭광모형%폭광삼수%추세면분석법
    针对厚胶曝光参数随不同光刻胶厚度及工艺条件变化的特点,在原有Dill曝光模型基础上,建立了适合于描述厚胶曝光过程的增强Dill模型,并将统计分析的趋势面法引入到厚胶曝光参数变化规律的研究中,给出了厚胶AZ4562曝光参数随胶厚及工艺条件的变化趋势,为开展厚胶光刻实验研究和曝光过程模拟提供指导性依据.
    침대후효폭광삼수수불동광각효후도급공예조건변화적특점,재원유Dill폭광모형기출상,건립료괄합우묘술후효폭광과정적증강Dill모형,병장통계분석적추세면법인입도후효폭광삼수변화규률적연구중,급출료후효AZ4562폭광삼수수효후급공예조건적변화추세,위개전후효광각실험연구화폭광과정모의제공지도성의거.
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