材料科学与工程学报
材料科學與工程學報
재료과학여공정학보
MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
2007年
2期
253-257
,共5页
高岭石%N-氧化吡啶%插层机理
高嶺石%N-氧化吡啶%插層機理
고령석%N-양화필정%삽층궤리
以高岭石/DMSO插层复合物作为前驱体,在微波辐射下成功制备了高岭石/N-氧化吡啶插层复合物,采用X-射线衍射、FT-IR光谱等技术对产物进行表征.实验结果表明:在高岭石/N-氧化吡啶插层复合物中,高岭石的层间距扩张到1.251nm,插层率达到了72.2%.在此基础上,进一步分析N-氧化吡啶插层高岭石的作用机理,即N-氧化吡啶分子中的N-O基团与高岭石的内表面羟基形成了氢键,N-氧化吡啶分子以单分子层形式近似垂直排列于高岭石层间.
以高嶺石/DMSO插層複閤物作為前驅體,在微波輻射下成功製備瞭高嶺石/N-氧化吡啶插層複閤物,採用X-射線衍射、FT-IR光譜等技術對產物進行錶徵.實驗結果錶明:在高嶺石/N-氧化吡啶插層複閤物中,高嶺石的層間距擴張到1.251nm,插層率達到瞭72.2%.在此基礎上,進一步分析N-氧化吡啶插層高嶺石的作用機理,即N-氧化吡啶分子中的N-O基糰與高嶺石的內錶麵羥基形成瞭氫鍵,N-氧化吡啶分子以單分子層形式近似垂直排列于高嶺石層間.
이고령석/DMSO삽층복합물작위전구체,재미파복사하성공제비료고령석/N-양화필정삽층복합물,채용X-사선연사、FT-IR광보등기술대산물진행표정.실험결과표명:재고령석/N-양화필정삽층복합물중,고령석적층간거확장도1.251nm,삽층솔체도료72.2%.재차기출상,진일보분석N-양화필정삽층고령석적작용궤리,즉N-양화필정분자중적N-O기단여고령석적내표면간기형성료경건,N-양화필정분자이단분자층형식근사수직배렬우고령석층간.
