CAJ | 학술논문

在Na2SiO3-Na2WO4-NaOH混合电解液中,利用微孤氧化(MAO)技术在TC11合金表面制备了氧化膜.用扫描电镜(SEM),X射线能谱仪(EDS),X射线衍射仪(XRD)对氧化膜微观结构、化学成分、厚度以及相组成进行了分析,采用HVS-1000维氏显微硬度计、MFT-4000划痕试验机、电化学测量系统完成氧化膜理化性能测试.实验结果表明,微孤氧化膜平均厚度达到135μm,分为两层结构,外层疏松,内层致密,氧化膜主要由TiO2、γ-A12O3、Al2TiO5以及部分非晶SiO2组成,主要元素在断面上呈现梯度分布.氧化膜最高显微硬度是基体的4.7倍,膜与基体结合力>48.50N.电化学极化曲线分析表明,氧化膜在4.5%盐水溶液中比基体的自腐蚀电流密度降低3个数量级,自腐蚀电位正移599mV.
재Na2SiO3-Na2WO4-NaOH혼합전해액중,이용미고양화(MAO)기술재TC11합금표면제비료양화막.용소묘전경(SEM),X사선능보의(EDS),X사선연사의(XRD)대양화막미관결구、화학성분、후도이급상조성진행료분석,채용HVS-1000유씨현미경도계、MFT-4000화흔시험궤、전화학측량계통완성양화막이화성능측시.실험결과표명,미고양화막평균후도체도135μm,분위량층결구,외층소송,내층치밀,양화막주요유TiO2、γ-A12O3、Al2TiO5이급부분비정SiO2조성,주요원소재단면상정현제도분포.양화막최고현미경도시기체적4.7배,막여기체결합력>48.50N.전화학겁화곡선분석표명,양화막재4.5%염수용액중비기체적자부식전류밀도강저3개수량급,자부식전위정이599mV.