电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
2008年
5期
352-357
,共6页
王立华%李金华%祁亚军%卢朝靖%YANG Hao%JIA Quan-xi%JIA Quan-xi
王立華%李金華%祁亞軍%盧朝靖%YANG Hao%JIA Quan-xi%JIA Quan-xi
왕립화%리금화%기아군%로조정%YANG Hao%JIA Quan-xi%JIA Quan-xi
Bi3.15Nd0.85Ti3O12%铁电薄膜%外延生长%透射电镜%失配位错
Bi3.15Nd0.85Ti3O12%鐵電薄膜%外延生長%透射電鏡%失配位錯
Bi3.15Nd0.85Ti3O12%철전박막%외연생장%투사전경%실배위착
用脉冲激光沉积在(001)SrRuO3,(001)SrTiO3上外延生长了c轴取向的Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNdT)铁电薄膜.SrRuO3底电极层厚约117 nm,BNdT薄膜厚～35nm.X射线衍射(XRD)和透射电镜(TEM)观察证实了SrRuO3层和BNdT薄膜的外延生长.通过TEM平面样品观察,在SrRuO3/BNdT界面附近看到了两种村度处于不同高度的失配位错网,位错线沿<110>走向,其柏格斯矢量沿[110]或[110]方向有分量,在[001]方向上可能没有分量.讨论了位错的形成机制.
用脈遲激光沉積在(001)SrRuO3,(001)SrTiO3上外延生長瞭c軸取嚮的Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNdT)鐵電薄膜.SrRuO3底電極層厚約117 nm,BNdT薄膜厚～35nm.X射線衍射(XRD)和透射電鏡(TEM)觀察證實瞭SrRuO3層和BNdT薄膜的外延生長.通過TEM平麵樣品觀察,在SrRuO3/BNdT界麵附近看到瞭兩種村度處于不同高度的失配位錯網,位錯線沿<110>走嚮,其柏格斯矢量沿[110]或[110]方嚮有分量,在[001]方嚮上可能沒有分量.討論瞭位錯的形成機製.
용맥충격광침적재(001)SrRuO3,(001)SrTiO3상외연생장료c축취향적Bi3.15Nd0.85Ti3O12(BNdT)철전박막.SrRuO3저전겁층후약117 nm,BNdT박막후～35nm.X사선연사(XRD)화투사전경(TEM)관찰증실료SrRuO3층화BNdT박막적외연생장.통과TEM평면양품관찰,재SrRuO3/BNdT계면부근간도료량충촌도처우불동고도적실배위착망,위착선연<110>주향,기백격사시량연[110]혹[110]방향유분량,재[001]방향상가능몰유분량.토론료위착적형성궤제.
