CAJ | 학술논문

采用一次浸渍法分别制备了 Pd/Ce0.8Zr0.15La0.05Oδ及Pd/Ce0.8Zr0.2O2整体式蜂窝陶瓷催化剂,考察了不同温度焙烧的两类整体催化剂甲苯催化燃烧性能.通过X射线粉末衍射(XRD)、比表面积、拉曼光谱(Raman)、程序升温还原(H2-TPR)、PdO分散度等表征结果与催化活性进行关联.结果表明,随着焙烧温度升高,催化剂比表面积下降,Raman图谱CeO2及PdO峰强度增加,H2-TPR中Ce4+还原峰向高温方向移动,同时PdO分散度下降,相应甲苯催化氧化活性下降.与CeO0.8Zr0.2O2涂层催化剂相比,La3+掺杂催化剂在高温焙烧时,其比表面积下降较小,Raman光谱表明其氧缺位比铈锆涂层催化剂多,H2TPR谱图中Ce4+还原峰低约60～80℃,PdO分散度亦比末掺杂催化剂高.1000℃焙烧下的甲苯氧化反应活性远高于未掺杂催化剂,说明镧的掺杂提高了铈锆涂层催化剂的高温反应活性及热稳定性.
채용일차침지법분별제비료 Pd/Ce0.8Zr0.15La0.05Oδ급Pd/Ce0.8Zr0.2O2정체식봉와도자최화제,고찰료불동온도배소적량류정체최화제갑분최화연소성능.통과X사선분말연사(XRD)、비표면적、랍만광보(Raman)、정서승온환원(H2-TPR)、PdO분산도등표정결과여최화활성진행관련.결과표명,수착배소온도승고,최화제비표면적하강,Raman도보CeO2급PdO봉강도증가,H2-TPR중Ce4+환원봉향고온방향이동,동시PdO분산도하강,상응갑분최화양화활성하강.여CeO0.8Zr0.2O2도층최화제상비,La3+참잡최화제재고온배소시,기비표면적하강교소,Raman광보표명기양결위비시고도층최화제다,H2TPR보도중Ce4+환원봉저약60～80℃,PdO분산도역비말참잡최화제고.1000℃배소하적갑분양화반응활성원고우미참잡최화제,설명란적참잡제고료시고도층최화제적고온반응활성급열은정성.