无机材料学报
無機材料學報
무궤재료학보
JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS
2006年
1期
75-80
,共6页
曹章轶%孙卓%郭平生%陈奕卫
曹章軼%孫卓%郭平生%陳奕衛
조장질%손탁%곽평생%진혁위
碳纳米管(CNTs)%化学气相沉积(CVD)%扫描电镜(SEM)%透射电镜(TEM)%拉曼光谱
碳納米管(CNTs)%化學氣相沉積(CVD)%掃描電鏡(SEM)%透射電鏡(TEM)%拉曼光譜
탄납미관(CNTs)%화학기상침적(CVD)%소묘전경(SEM)%투사전경(TEM)%랍만광보
采用低压化学气相沉积(LPCVD)在镍片上制备了厚度在400～1000μm范围的碳纳米管(CNTs)薄膜,研究了碳源(乙炔)流量对碳纳米管薄膜形貌和结构的影响.随乙炔流量的增加,碳纳米管薄膜厚度和产量增大.电子显微镜和拉曼光谱研究结果表明,在乙炔流量为10sccm下制备的碳纳米管直径分布范围最小(10～100nm),石墨化程度最高,缺陷密度最小,晶形最完整.随着乙炔流量的增大(30～90sccm),碳纳米管的直径分布范围增大(10～300nm),石墨化程度降低,缺陷密度增大,非晶化程度增加.因此,通过碳源流量可以控制碳纳米管薄膜的形貌和结构.
採用低壓化學氣相沉積(LPCVD)在鎳片上製備瞭厚度在400～1000μm範圍的碳納米管(CNTs)薄膜,研究瞭碳源(乙炔)流量對碳納米管薄膜形貌和結構的影響.隨乙炔流量的增加,碳納米管薄膜厚度和產量增大.電子顯微鏡和拉曼光譜研究結果錶明,在乙炔流量為10sccm下製備的碳納米管直徑分佈範圍最小(10～100nm),石墨化程度最高,缺陷密度最小,晶形最完整.隨著乙炔流量的增大(30～90sccm),碳納米管的直徑分佈範圍增大(10～300nm),石墨化程度降低,缺陷密度增大,非晶化程度增加.因此,通過碳源流量可以控製碳納米管薄膜的形貌和結構.
채용저압화학기상침적(LPCVD)재얼편상제비료후도재400～1000μm범위적탄납미관(CNTs)박막,연구료탄원(을결)류량대탄납미관박막형모화결구적영향.수을결류량적증가,탄납미관박막후도화산량증대.전자현미경화랍만광보연구결과표명,재을결류량위10sccm하제비적탄납미관직경분포범위최소(10～100nm),석묵화정도최고,결함밀도최소,정형최완정.수착을결류량적증대(30～90sccm),탄납미관적직경분포범위증대(10～300nm),석묵화정도강저,결함밀도증대,비정화정도증가.인차,통과탄원류량가이공제탄납미관박막적형모화결구.
