润滑与密封
潤滑與密封
윤활여밀봉
LUBRICATION ENGINEERING
2012年
5期
1-6,22
,共7页
刘宇宏%董莹%戴媛静%雒建斌
劉宇宏%董瑩%戴媛靜%雒建斌
류우굉%동형%대원정%락건빈
缓蚀剂%化学机械抛光%抛光机制%吸附
緩蝕劑%化學機械拋光%拋光機製%吸附
완식제%화학궤계포광%포광궤제%흡부
采用静态腐蚀实验、接触角测试、XPS等手段,比较在不同pH值下抛光液中缓蚀剂(5-氨基四唑(ATA),苯并三唑(BTA))对铜表面化学机械抛光(CMP)的影响,并探讨ATA在铜表面的作用机制.结果表明,BTA和ATA是优良的铜缓蚀剂,当pH值为3～10时,两者可在铜表面成膜,保护铜表面不受腐蚀,从而降低铜片的静态腐蚀速率和去除率,其中当pH =4时,2种缓蚀剂表现出最佳的缓蚀性能.当pH值为3～5时,ATA的缓蚀性能优于BTA.ATA通过四唑环上的N原子和氨基上的N原子吸附在铜表面,形成保护膜,从而抑制了H2O2对铜表面的腐蚀,改善了表面质量,是一种优良的适用于酸性铜抛光液的缓蚀剂.
採用靜態腐蝕實驗、接觸角測試、XPS等手段,比較在不同pH值下拋光液中緩蝕劑(5-氨基四唑(ATA),苯併三唑(BTA))對銅錶麵化學機械拋光(CMP)的影響,併探討ATA在銅錶麵的作用機製.結果錶明,BTA和ATA是優良的銅緩蝕劑,噹pH值為3～10時,兩者可在銅錶麵成膜,保護銅錶麵不受腐蝕,從而降低銅片的靜態腐蝕速率和去除率,其中噹pH =4時,2種緩蝕劑錶現齣最佳的緩蝕性能.噹pH值為3～5時,ATA的緩蝕性能優于BTA.ATA通過四唑環上的N原子和氨基上的N原子吸附在銅錶麵,形成保護膜,從而抑製瞭H2O2對銅錶麵的腐蝕,改善瞭錶麵質量,是一種優良的適用于痠性銅拋光液的緩蝕劑.
채용정태부식실험、접촉각측시、XPS등수단,비교재불동pH치하포광액중완식제(5-안기사서(ATA),분병삼서(BTA))대동표면화학궤계포광(CMP)적영향,병탐토ATA재동표면적작용궤제.결과표명,BTA화ATA시우량적동완식제,당pH치위3～10시,량자가재동표면성막,보호동표면불수부식,종이강저동편적정태부식속솔화거제솔,기중당pH =4시,2충완식제표현출최가적완식성능.당pH치위3～5시,ATA적완식성능우우BTA.ATA통과사서배상적N원자화안기상적N원자흡부재동표면,형성보호막,종이억제료H2O2대동표면적부식,개선료표면질량,시일충우량적괄용우산성동포광액적완식제.
