稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2012年
7期
1161-1165
,共5页
钛合金%微弧氧化%电化学%羟基磷灰石
鈦閤金%微弧氧化%電化學%羥基燐灰石
태합금%미호양화%전화학%간기린회석
采用微弧氧化技术在TC4钛合金表面制备了多孔陶瓷层,研究了其在Hank's模拟体液中的电化学腐蚀行为,利用SEM和XRD分析了其表面形貌和物相组成.结果表明,微弧氧化合金的自腐蚀电位升高约0.3 V,提高了TC4钛合金在生物体液环境下的化学稳定性.在钛合金植入体电位范围内,微弧氧化处理可明显提高极化电阻,减少腐蚀电流1~2个数量级.随腐蚀时间的延长,TC4钛合金表面钝化膜逐渐发生腐蚀,而微弧氧化膜浸泡初期HA的形核及生长是电极反应中最活跃部分,2周后表面形成均匀的HA薄膜,表现出良好的抗电化学腐蚀性能.
採用微弧氧化技術在TC4鈦閤金錶麵製備瞭多孔陶瓷層,研究瞭其在Hank's模擬體液中的電化學腐蝕行為,利用SEM和XRD分析瞭其錶麵形貌和物相組成.結果錶明,微弧氧化閤金的自腐蝕電位升高約0.3 V,提高瞭TC4鈦閤金在生物體液環境下的化學穩定性.在鈦閤金植入體電位範圍內,微弧氧化處理可明顯提高極化電阻,減少腐蝕電流1~2箇數量級.隨腐蝕時間的延長,TC4鈦閤金錶麵鈍化膜逐漸髮生腐蝕,而微弧氧化膜浸泡初期HA的形覈及生長是電極反應中最活躍部分,2週後錶麵形成均勻的HA薄膜,錶現齣良好的抗電化學腐蝕性能.
채용미호양화기술재TC4태합금표면제비료다공도자층,연구료기재Hank's모의체액중적전화학부식행위,이용SEM화XRD분석료기표면형모화물상조성.결과표명,미호양화합금적자부식전위승고약0.3 V,제고료TC4태합금재생물체액배경하적화학은정성.재태합금식입체전위범위내,미호양화처리가명현제고겁화전조,감소부식전류1~2개수량급.수부식시간적연장,TC4태합금표면둔화막축점발생부식,이미호양화막침포초기HA적형핵급생장시전겁반응중최활약부분,2주후표면형성균균적HA박막,표현출량호적항전화학부식성능.