光电工程
光電工程
광전공정
OPTO-ELECTRONIC ENGINEERING
2006年
6期
37-40,52
,共5页
张东平%邵淑英%黄建兵%占美琼%范正修%邵建达
張東平%邵淑英%黃建兵%佔美瓊%範正脩%邵建達
장동평%소숙영%황건병%점미경%범정수%소건체
氧化锆薄膜%氧分压%表面迁移率%薄膜特性
氧化鋯薄膜%氧分壓%錶麵遷移率%薄膜特性
양화고박막%양분압%표면천이솔%박막특성
在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法制备了氧化锆薄膜.用扫描探针显微镜、X射线衍射仪和分光光度计分别对薄膜的表面粗糙度、微结构和透射谱等特性进行了表征.实验发现,薄膜沉积中氧分压与薄膜性质及微结构有密切的关系.当氧分压由3.0×10-3Pa升高到11×10-3Pa,薄膜的表面粗糙度由3.012nm降低到1.562nm,而薄膜的折射率由2.06降低到2.01.此外,X射线的衍射还发现,薄膜是以四方相为主多相共存的,随着氧分压的增加,特征衍射峰强度逐渐减弱,最后完全变成非晶.
在不同的氧分壓下用電子束熱蒸髮的方法製備瞭氧化鋯薄膜.用掃描探針顯微鏡、X射線衍射儀和分光光度計分彆對薄膜的錶麵粗糙度、微結構和透射譜等特性進行瞭錶徵.實驗髮現,薄膜沉積中氧分壓與薄膜性質及微結構有密切的關繫.噹氧分壓由3.0×10-3Pa升高到11×10-3Pa,薄膜的錶麵粗糙度由3.012nm降低到1.562nm,而薄膜的摺射率由2.06降低到2.01.此外,X射線的衍射還髮現,薄膜是以四方相為主多相共存的,隨著氧分壓的增加,特徵衍射峰彊度逐漸減弱,最後完全變成非晶.
재불동적양분압하용전자속열증발적방법제비료양화고박막.용소묘탐침현미경、X사선연사의화분광광도계분별대박막적표면조조도、미결구화투사보등특성진행료표정.실험발현,박막침적중양분압여박막성질급미결구유밀절적관계.당양분압유3.0×10-3Pa승고도11×10-3Pa,박막적표면조조도유3.012nm강저도1.562nm,이박막적절사솔유2.06강저도2.01.차외,X사선적연사환발현,박막시이사방상위주다상공존적,수착양분압적증가,특정연사봉강도축점감약,최후완전변성비정.
