电子与信息学报
電子與信息學報
전자여신식학보
JOURNAL OF ELECTRONICS & INFORMATION TECHNOLOGY
2003年
2期
259-262
,共4页
邢英杰%奚中和%俞大鹏%杭青岭%严涵斐%冯孙齐%薛增泉
邢英傑%奚中和%俞大鵬%杭青嶺%嚴涵斐%馮孫齊%薛增泉
형영걸%해중화%유대붕%항청령%엄함비%풍손제%설증천
硅纳米线%SLS生长机制%升温特性
硅納米線%SLS生長機製%升溫特性
규납미선%SLS생장궤제%승온특성
该文报道一种直接在硅片上热生长硅纳米线的新方法.与传统的VLS生长机制不同,该方法在生长硅纳米线的过程中没有引入任何气态或液态硅源,是一种全新的固-液-固(SLS)生长机制.实验中使用了Ni,Au等金属作为催化剂,由Ar,H2等作为载流气体.系统压强为2 5×104Pa,生长温度为950-1000℃.生长出的硅纳米线表面光滑,呈纯非舳态,直径为10-40nm,长度可达数十微米.升温特性对硅纳米线SLS热生长起重要作用.研究了各项实验参数(包括气氛压强,加热温度及加热时间等)对硅纳米线生长的影响.
該文報道一種直接在硅片上熱生長硅納米線的新方法.與傳統的VLS生長機製不同,該方法在生長硅納米線的過程中沒有引入任何氣態或液態硅源,是一種全新的固-液-固(SLS)生長機製.實驗中使用瞭Ni,Au等金屬作為催化劑,由Ar,H2等作為載流氣體.繫統壓彊為2 5×104Pa,生長溫度為950-1000℃.生長齣的硅納米線錶麵光滑,呈純非舳態,直徑為10-40nm,長度可達數十微米.升溫特性對硅納米線SLS熱生長起重要作用.研究瞭各項實驗參數(包括氣氛壓彊,加熱溫度及加熱時間等)對硅納米線生長的影響.
해문보도일충직접재규편상열생장규납미선적신방법.여전통적VLS생장궤제불동,해방법재생장규납미선적과정중몰유인입임하기태혹액태규원,시일충전신적고-액-고(SLS)생장궤제.실험중사용료Ni,Au등금속작위최화제,유Ar,H2등작위재류기체.계통압강위2 5×104Pa,생장온도위950-1000℃.생장출적규납미선표면광활,정순비축태,직경위10-40nm,장도가체수십미미.승온특성대규납미선SLS열생장기중요작용.연구료각항실험삼수(포괄기분압강,가열온도급가열시간등)대규납미선생장적영향.
