真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2007年
6期
526-530
,共5页
刘峰%孟月东%任兆杏%沈克明%舒兴胜
劉峰%孟月東%任兆杏%瀋剋明%舒興勝
류봉%맹월동%임조행%침극명%서흥성
电感耦合等离子体%磁控溅射%ZrN%微结构%纳米硬度
電感耦閤等離子體%磁控濺射%ZrN%微結構%納米硬度
전감우합등리자체%자공천사%ZrN%미결구%납미경도
利用电感耦合等离子体(ICP)辅助射频磁控溅射技术,在Si(111)片表面制备了ZrN薄膜.研究发现,随着ICP功率的增大,基片的电流密度增大,薄膜的致密度增大,粗糙度降低.XRD结果表明:当ICP功率在0 W～300 W之间,薄膜为单一的ZrN结构,硬度随着ICP功率的增大而增大,在ICP=300 W时达到最大值32 GPa,应力保持在-8 GPa左右;当ICP功率在400 W～500 W,薄膜为ZrN和ZrNx复合结构.硬度和应力分别降低到20 GPa和-3 GPa.薄膜的这些性能的变化是由于ICP功率变化引起结构变化造成的.
利用電感耦閤等離子體(ICP)輔助射頻磁控濺射技術,在Si(111)片錶麵製備瞭ZrN薄膜.研究髮現,隨著ICP功率的增大,基片的電流密度增大,薄膜的緻密度增大,粗糙度降低.XRD結果錶明:噹ICP功率在0 W～300 W之間,薄膜為單一的ZrN結構,硬度隨著ICP功率的增大而增大,在ICP=300 W時達到最大值32 GPa,應力保持在-8 GPa左右;噹ICP功率在400 W～500 W,薄膜為ZrN和ZrNx複閤結構.硬度和應力分彆降低到20 GPa和-3 GPa.薄膜的這些性能的變化是由于ICP功率變化引起結構變化造成的.
이용전감우합등리자체(ICP)보조사빈자공천사기술,재Si(111)편표면제비료ZrN박막.연구발현,수착ICP공솔적증대,기편적전류밀도증대,박막적치밀도증대,조조도강저.XRD결과표명:당ICP공솔재0 W～300 W지간,박막위단일적ZrN결구,경도수착ICP공솔적증대이증대,재ICP=300 W시체도최대치32 GPa,응력보지재-8 GPa좌우;당ICP공솔재400 W～500 W,박막위ZrN화ZrNx복합결구.경도화응력분별강저도20 GPa화-3 GPa.박막적저사성능적변화시유우ICP공솔변화인기결구변화조성적.
