物理学报
物理學報
물이학보
2005年
3期
1447-1451
,共5页
李俊杰%吴汉华%龙北玉%吕宪义%胡超权%金曾孙
李俊傑%吳漢華%龍北玉%呂憲義%鬍超權%金曾孫
리준걸%오한화%룡북옥%려헌의%호초권%금증손
场致电子发射%N离子注入%金刚石膜%热丝化学气相沉积
場緻電子髮射%N離子註入%金剛石膜%熱絲化學氣相沉積
장치전자발사%N리자주입%금강석막%열사화학기상침적
不同剂量的N离子被注入到化学气相沉积金刚石膜内,研究了表面结构及场发射特性的变化.Raman谱和x射线光电子能谱分析表明,N离子的注入破坏了金刚石膜表面原有的sp3结构,并在膜内形成大量的sp2 C-C和sp2C-N键.样品的场发射测试显示N离子的注入显著提高了金刚石膜场发射特性,膜的场发射阈值电场从注入前的18 V/μm下降到注入后的4 V/μm.金刚石膜场发射特性的提高归因于N离子注入后膜内sp2C键含量的增加和体内缺陷带的形成,这些变化能改变膜的表面功函数,提高Feimi能级,降低电子隧穿表面的能量势垒.
不同劑量的N離子被註入到化學氣相沉積金剛石膜內,研究瞭錶麵結構及場髮射特性的變化.Raman譜和x射線光電子能譜分析錶明,N離子的註入破壞瞭金剛石膜錶麵原有的sp3結構,併在膜內形成大量的sp2 C-C和sp2C-N鍵.樣品的場髮射測試顯示N離子的註入顯著提高瞭金剛石膜場髮射特性,膜的場髮射閾值電場從註入前的18 V/μm下降到註入後的4 V/μm.金剛石膜場髮射特性的提高歸因于N離子註入後膜內sp2C鍵含量的增加和體內缺陷帶的形成,這些變化能改變膜的錶麵功函數,提高Feimi能級,降低電子隧穿錶麵的能量勢壘.
불동제량적N리자피주입도화학기상침적금강석막내,연구료표면결구급장발사특성적변화.Raman보화x사선광전자능보분석표명,N리자적주입파배료금강석막표면원유적sp3결구,병재막내형성대량적sp2 C-C화sp2C-N건.양품적장발사측시현시N리자적주입현저제고료금강석막장발사특성,막적장발사역치전장종주입전적18 V/μm하강도주입후적4 V/μm.금강석막장발사특성적제고귀인우N리자주입후막내sp2C건함량적증가화체내결함대적형성,저사변화능개변막적표면공함수,제고Feimi능급,강저전자수천표면적능량세루.
