Ge在Ru(0001)表面上生长及其性质研究
Ge재Ru(0001)표면상생장급기성질연구
Growth and characteristics of Ge on Ru(0001)
  • 万方数据
    物理学报 물이학보

    2005年 3期 1330-1333 ,共4页

    胡昉%张寒洁%吕斌%陶永升%李海洋%鲍世宁%何丕模%王学森

    호방%장한길%려빈%도영승%리해양%포세저%하비모%왕학삼

    Ge%Ru表面%生长%相互作用 Ge%Ru錶麵%生長%相互作用
    Ge%Ru표면%생장%상호작용
    报道Ge在Ru(0001)表面上生长以及相互作用行为的扫描隧道显微镜(STM)和x射线光电子能谱(XPS)研究.STM的实验结果表明Ge在Ru(0001)表面的生长呈典型的Stranski-Krastanov生长模式,Ge的覆盖度小于单原子层时呈层状生长,而从第二层开始呈岛状生长.XPS测量显示衬底Ru(0001)与Ge的相互作用很弱.Ru(0001)表面的Ru 3d5/2和Ru 3d3/2芯态结合能分别处于279.8和284.0 eV.随着Ge的生长,到Ge层的厚度为20个单原子层,衬底Ru 3d芯态结合能减小了约0.2 eV,而Ge 3d芯态结合能从Ge低覆盖度时的28.9 eV增加到了29.0 eV,其相对位移约为0.1 eV.
    보도Ge재Ru(0001)표면상생장이급상호작용행위적소묘수도현미경(STM)화x사선광전자능보(XPS)연구.STM적실험결과표명Ge재Ru(0001)표면적생장정전형적Stranski-Krastanov생장모식,Ge적복개도소우단원자층시정층상생장,이종제이층개시정도상생장.XPS측량현시츤저Ru(0001)여Ge적상호작용흔약.Ru(0001)표면적Ru 3d5/2화Ru 3d3/2심태결합능분별처우279.8화284.0 eV.수착Ge적생장,도Ge층적후도위20개단원자층,츤저Ru 3d심태결합능감소료약0.2 eV,이Ge 3d심태결합능종Ge저복개도시적28.9 eV증가도료29.0 eV,기상대위이약위0.1 eV.
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