CAJ | 학술논문

采用Teer UDP 650型闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备沉积CrN镀层,通过调变偏压获得不同结构和性能的CrN镀层.试验用划痕法测定了镀层结合强度、用球-盘方法测定了镀层摩擦系数和比磨损率、用压入法评价镀层韧性,硬度测试在维氏硬度计上进行.实验结果表明,随着溅射偏压的升高,离子速流提高,偏压过低或过高均使沉积速率下降,-50V～-70V偏压时沉积速率基本保持稳定.CrN镀层的硬度随偏压的升高而升高,但伴随着韧性的下降.高偏压下沉积的镀层摩擦系数呈下降趋势,偏压在-40V～-70V间制备的镀层对磨WC球时几乎不磨损,但当偏压从-70V提高到-80V时,磨损明显加剧.
채용Teer UDP 650형폐합장비평형자공천사리자도설비침적CrN도층,통과조변편압획득불동결구화성능적CrN도층.시험용화흔법측정료도층결합강도、용구-반방법측정료도층마찰계수화비마손솔、용압입법평개도층인성,경도측시재유씨경도계상진행.실험결과표명,수착천사편압적승고,리자속류제고,편압과저혹과고균사침적속솔하강,-50V～-70V편압시침적속솔기본보지은정.CrN도층적경도수편압적승고이승고,단반수착인성적하강.고편압하침적적도층마찰계수정하강추세,편압재-40V～-70V간제비적도층대마WC구시궤호불마손,단당편압종-70V제고도-80V시,마손명현가극.