光刻技术在微电子设备的应用及发展
광각기술재미전자설비적응용급발전
The Application and Development of Lithography Technology for Microelectronics Equipment in New Century
  • 万方数据
    光电子技术与信息 광전자기술여신식
    OPTOELECTRONIC TECHNOLOGY & INFORMATION
    2004年 1期 24-27 ,共4页

    刘加峰%胡存刚%宗仁鹤

    류가봉%호존강%종인학

    微电子%光刻%下一代光刻技术 微電子%光刻%下一代光刻技術
    미전자%광각%하일대광각기술
    介绍了光刻技术在微电子领域的应用,具体分析多种短波长光刻技术的最新进展,并对在0.1μm之后用于替代光学光刻的下一代光刻技术的发展趋势作了展望.
    개소료광각기술재미전자영역적응용,구체분석다충단파장광각기술적최신진전,병대재0.1μm지후용우체대광학광각적하일대광각기술적발전추세작료전망.
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