激光杂志
激光雜誌
격광잡지
LASER JOURNAL
2011年
2期
10-11
,共2页
激光技术%纳米硅薄膜%1342nm激光%被动调Q%双光子吸收
激光技術%納米硅薄膜%1342nm激光%被動調Q%雙光子吸收
격광기술%납미규박막%1342nm격광%피동조Q%쌍광자흡수
采用射频磁控溅射技术和热退火处理制备了石英衬底的纳米Si镶嵌SiN<,x>(ne-SiN<,x>)薄膜.通过对薄膜的小角度X射线衍射和吸收光谱测试,确定了硅晶粒尺寸和光学带隙.采用Z-扫描技术研究了薄膜的三阶非线性光学特性,结果表明薄膜的非线性吸收属于双光子吸收.把ne-Si/SiN<,x>薄膜作为可饱和吸收体插入LD抽运的Nd:YVO4激光器中,实现了1342nm激光的被动调Q,获得51 ns的激光脉冲.理论分析和实验结果表明,由于纳米Si的光学带隙大于1342nm光子能量,所以双光子饱和吸收导致了1342nm激光的被动调Q.
採用射頻磁控濺射技術和熱退火處理製備瞭石英襯底的納米Si鑲嵌SiN<,x>(ne-SiN<,x>)薄膜.通過對薄膜的小角度X射線衍射和吸收光譜測試,確定瞭硅晶粒呎吋和光學帶隙.採用Z-掃描技術研究瞭薄膜的三階非線性光學特性,結果錶明薄膜的非線性吸收屬于雙光子吸收.把ne-Si/SiN<,x>薄膜作為可飽和吸收體插入LD抽運的Nd:YVO4激光器中,實現瞭1342nm激光的被動調Q,穫得51 ns的激光脈遲.理論分析和實驗結果錶明,由于納米Si的光學帶隙大于1342nm光子能量,所以雙光子飽和吸收導緻瞭1342nm激光的被動調Q.
채용사빈자공천사기술화열퇴화처리제비료석영츤저적납미Si양감SiN<,x>(ne-SiN<,x>)박막.통과대박막적소각도X사선연사화흡수광보측시,학정료규정립척촌화광학대극.채용Z-소묘기술연구료박막적삼계비선성광학특성,결과표명박막적비선성흡수속우쌍광자흡수.파ne-Si/SiN<,x>박막작위가포화흡수체삽입LD추운적Nd:YVO4격광기중,실현료1342nm격광적피동조Q,획득51 ns적격광맥충.이론분석화실험결과표명,유우납미Si적광학대극대우1342nm광자능량,소이쌍광자포화흡수도치료1342nm격광적피동조Q.
