电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2006年
4期
35-38
,共4页
宋玲%廖炼斌%张勇%罗卫国
宋玲%廖煉斌%張勇%囉衛國
송령%료련빈%장용%라위국
LPCVD%串级控制%温度控制
LPCVD%串級控製%溫度控製
LPCVD%천급공제%온도공제
在大部分半导体工艺中,温度都是最重要的工艺参数之一,炉温的均匀性和稳定度对工艺都有着至关重要的影响.主要介绍了LPCVD设备中的高精度串级温度控制系统,该系统结构简单,控制效果良好,温度稳定度≤±0.5℃/24h.
在大部分半導體工藝中,溫度都是最重要的工藝參數之一,爐溫的均勻性和穩定度對工藝都有著至關重要的影響.主要介紹瞭LPCVD設備中的高精度串級溫度控製繫統,該繫統結構簡單,控製效果良好,溫度穩定度≤±0.5℃/24h.
재대부분반도체공예중,온도도시최중요적공예삼수지일,로온적균균성화은정도대공예도유착지관중요적영향.주요개소료LPCVD설비중적고정도천급온도공제계통,해계통결구간단,공제효과량호,온도은정도≤±0.5℃/24h.
