佛山陶瓷
彿山陶瓷
불산도자
FOSHAN CERAMICS
2010年
5期
24-26
,共3页
锆酸钡%薄膜%电耦合
鋯痠鋇%薄膜%電耦閤
고산패%박막%전우합
本研究采用水热电耦合方法合成了BaZrO2薄膜.首先通过阴极放电等离子体(HCD-IP)在Si基片上沉积氮化锫(ZrN)薄膜,接着将包覆ZrN的Si基片侵入到水热电耦合装置中,其混合溶液为Ba(CH32OO)2和NaOH,在90℃的温度下工作1～15h.结果表明,在ZrN/Si基片上成功合成了立方BaZrO2薄膜.BaZrO2薄膜在ZrN上的生长速率比在块体Zr上的生长速率快,BaZrO3薄膜展示出纳米层结构,其厚度在15h后可达到2 μm.本文讨论了溶液的反应温度和反应时间对薄膜形貌和厚度的影响.
本研究採用水熱電耦閤方法閤成瞭BaZrO2薄膜.首先通過陰極放電等離子體(HCD-IP)在Si基片上沉積氮化锫(ZrN)薄膜,接著將包覆ZrN的Si基片侵入到水熱電耦閤裝置中,其混閤溶液為Ba(CH32OO)2和NaOH,在90℃的溫度下工作1～15h.結果錶明,在ZrN/Si基片上成功閤成瞭立方BaZrO2薄膜.BaZrO2薄膜在ZrN上的生長速率比在塊體Zr上的生長速率快,BaZrO3薄膜展示齣納米層結構,其厚度在15h後可達到2 μm.本文討論瞭溶液的反應溫度和反應時間對薄膜形貌和厚度的影響.
본연구채용수열전우합방법합성료BaZrO2박막.수선통과음겁방전등리자체(HCD-IP)재Si기편상침적담화부(ZrN)박막,접착장포복ZrN적Si기편침입도수열전우합장치중,기혼합용액위Ba(CH32OO)2화NaOH,재90℃적온도하공작1～15h.결과표명,재ZrN/Si기편상성공합성료립방BaZrO2박막.BaZrO2박막재ZrN상적생장속솔비재괴체Zr상적생장속솔쾌,BaZrO3박막전시출납미층결구,기후도재15h후가체도2 μm.본문토론료용액적반응온도화반응시간대박막형모화후도적영향.
