光学技术
光學技術
광학기술
OPTICAL TECHNOLOGY
2008年
z1期
261-262,264
,共3页
原子沉积台%驻波光场%F-P腔%压电陶瓷%控制系统
原子沉積檯%駐波光場%F-P腔%壓電陶瓷%控製繫統
원자침적태%주파광장%F-P강%압전도자%공제계통
研究了以稳定F-P腔腔长来控制原子沉积台与驻波光场之间相对位置的稳定性.在简要分析F-P腔工作原理的基础上,设计了F-P腔腔长锁定反馈控制系统.该系统以633nm稳频激光作为基准光源,通过光电转换、调制与解调、比例积分等控制环节,实现了将F-P腔的谐振频率锁定到基准光源的频率上.实验结果表明,锁定后的F-P腔腔长的稳定度达到了10-8以上,可满足原子光刻技术中对沉积台与驻波光场相对位置稳定的应用要求.
研究瞭以穩定F-P腔腔長來控製原子沉積檯與駐波光場之間相對位置的穩定性.在簡要分析F-P腔工作原理的基礎上,設計瞭F-P腔腔長鎖定反饋控製繫統.該繫統以633nm穩頻激光作為基準光源,通過光電轉換、調製與解調、比例積分等控製環節,實現瞭將F-P腔的諧振頻率鎖定到基準光源的頻率上.實驗結果錶明,鎖定後的F-P腔腔長的穩定度達到瞭10-8以上,可滿足原子光刻技術中對沉積檯與駐波光場相對位置穩定的應用要求.
연구료이은정F-P강강장래공제원자침적태여주파광장지간상대위치적은정성.재간요분석F-P강공작원리적기출상,설계료F-P강강장쇄정반궤공제계통.해계통이633nm은빈격광작위기준광원,통과광전전환、조제여해조、비례적분등공제배절,실현료장F-P강적해진빈솔쇄정도기준광원적빈솔상.실험결과표명,쇄정후적F-P강강장적은정도체도료10-8이상,가만족원자광각기술중대침적태여주파광장상대위치은정적응용요구.
