真空电子技术
真空電子技術
진공전자기술
VACUUM ELECTRONICS
2008年
5期
11-15
,共5页
李莉莉%王亦曼%王金淑%王燕春%刘伟
李莉莉%王亦曼%王金淑%王燕春%劉偉
리리리%왕역만%왕금숙%왕연춘%류위
带状电子注%钪酸盐阴极%太赫兹源
帶狀電子註%鈧痠鹽陰極%太赫玆源
대상전자주%항산염음겁%태혁자원
为适应太赫兹史密斯-珀塞尔辐射源的迫切需求,研究从阴极表面直接产生微米尺度带状电子注的技术和检测方法,获得电流密度50 A/cm2,600μm×100μm的矩形层流电子注.
為適應太赫玆史密斯-珀塞爾輻射源的迫切需求,研究從陰極錶麵直接產生微米呎度帶狀電子註的技術和檢測方法,穫得電流密度50 A/cm2,600μm×100μm的矩形層流電子註.
위괄응태혁자사밀사-박새이복사원적박절수구,연구종음겁표면직접산생미미척도대상전자주적기술화검측방법,획득전류밀도50 A/cm2,600μm×100μm적구형층류전자주.
