现代显示
現代顯示
현대현시
ADVANCED DISPLAY
2006年
4期
30-34
,共5页
Nobuo Karaki%Takashi Nanmoto%Hiroaki Ebihara%Satoshi Inoue%Tatsuya Shimoda%代永平
Nobuo Karaki%Takashi Nanmoto%Hiroaki Ebihara%Satoshi Inoue%Tatsuya Shimoda%代永平
Nobuo Karaki%Takashi Nanmoto%Hiroaki Ebihara%Satoshi Inoue%Tatsuya Shimoda%대영평
低温多晶硅%激光退火表面刻蚀%异步微处理器
低溫多晶硅%激光退火錶麵刻蝕%異步微處理器
저온다정규%격광퇴화표면각식%이보미처리기
介绍基于低温多晶硅TFT技术和采用激光退火表面刻蚀技术的柔性8位异步微处理器,并且给出了异步电路描述语言Verilog+.32,000个晶体管的微处理器在500kHz,5V的条件下消耗电流180mA,功耗是同步微处理器的30%.
介紹基于低溫多晶硅TFT技術和採用激光退火錶麵刻蝕技術的柔性8位異步微處理器,併且給齣瞭異步電路描述語言Verilog+.32,000箇晶體管的微處理器在500kHz,5V的條件下消耗電流180mA,功耗是同步微處理器的30%.
개소기우저온다정규TFT기술화채용격광퇴화표면각식기술적유성8위이보미처리기,병차급출료이보전로묘술어언Verilog+.32,000개정체관적미처리기재500kHz,5V적조건하소모전류180mA,공모시동보미처리기적30%.