固体电子学研究与进展
固體電子學研究與進展
고체전자학연구여진전
RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
2006年
2期
279-284
,共6页
陆海纬%陈忠浩%王蓓%宋云%曾(韦华)%郑国祥
陸海緯%陳忠浩%王蓓%宋雲%曾(韋華)%鄭國祥
륙해위%진충호%왕배%송운%증(위화)%정국상
聚集离子束%微分析%溅射刻蚀%增强刻蚀%刻蚀束流
聚集離子束%微分析%濺射刻蝕%增彊刻蝕%刻蝕束流
취집리자속%미분석%천사각식%증강각식%각식속류
利用聚集离子束(FIB)对小线度下(≤3 μm)的溅射刻蚀与增强刻蚀的性能进行了实验和分析.通过对硅和铝的刻蚀实验,研究在溅射刻蚀与增强刻蚀方法下刻蚀速率、蚀坑形貌与离子束流大小的关系.实验发现,铝和硅的刻蚀速率与刻蚀束流近似成线性关系;束流增大到一定程度后由于束斑变大及瞬时重淀积的作用,刻蚀速率曲线偏离线性.使用卤化物气体的增强刻蚀,硅和铝的刻蚀速率得到不同程度地提高.根据蚀坑形貌与束流大小的关系分析,发现瞬时重淀积是影响小线度刻蚀质量的主要因素.增强刻蚀大大减小了蚀坑的坑璧倾角,而坑底倾斜问题需综合考虑.
利用聚集離子束(FIB)對小線度下(≤3 μm)的濺射刻蝕與增彊刻蝕的性能進行瞭實驗和分析.通過對硅和鋁的刻蝕實驗,研究在濺射刻蝕與增彊刻蝕方法下刻蝕速率、蝕坑形貌與離子束流大小的關繫.實驗髮現,鋁和硅的刻蝕速率與刻蝕束流近似成線性關繫;束流增大到一定程度後由于束斑變大及瞬時重澱積的作用,刻蝕速率麯線偏離線性.使用滷化物氣體的增彊刻蝕,硅和鋁的刻蝕速率得到不同程度地提高.根據蝕坑形貌與束流大小的關繫分析,髮現瞬時重澱積是影響小線度刻蝕質量的主要因素.增彊刻蝕大大減小瞭蝕坑的坑璧傾角,而坑底傾斜問題需綜閤攷慮.
이용취집리자속(FIB)대소선도하(≤3 μm)적천사각식여증강각식적성능진행료실험화분석.통과대규화려적각식실험,연구재천사각식여증강각식방법하각식속솔、식갱형모여리자속류대소적관계.실험발현,려화규적각식속솔여각식속류근사성선성관계;속류증대도일정정도후유우속반변대급순시중정적적작용,각식속솔곡선편리선성.사용서화물기체적증강각식,규화려적각식속솔득도불동정도지제고.근거식갱형모여속류대소적관계분석,발현순시중정적시영향소선도각식질량적주요인소.증강각식대대감소료식갱적갱벽경각,이갱저경사문제수종합고필.
