物理化学学报
物理化學學報
물이화학학보
ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA
2003年
7期
641-646
,共6页
界面扩散反应%Ti/ZrN2/Si%俄歇电子能谱
界麵擴散反應%Ti/ZrN2/Si%俄歇電子能譜
계면확산반응%Ti/ZrN2/Si%아헐전자능보
利用直流磁控反应溅射法在Si基底上制备了Ti/ZrN2/Si多层薄膜,利用俄歇深度剖析和线形分析研究了真空热处理前后膜层间的界面状态及相互作用.研究结果表明,Ti膜和ZrN2膜均在沉积过程中发生了界面扩散作用,真空热处理可以显著地增强Ti/ZrN2/Si膜层间的界面扩散和化学反应,并分别在界面层生成了TiNx和SiNx等物种.
利用直流磁控反應濺射法在Si基底上製備瞭Ti/ZrN2/Si多層薄膜,利用俄歇深度剖析和線形分析研究瞭真空熱處理前後膜層間的界麵狀態及相互作用.研究結果錶明,Ti膜和ZrN2膜均在沉積過程中髮生瞭界麵擴散作用,真空熱處理可以顯著地增彊Ti/ZrN2/Si膜層間的界麵擴散和化學反應,併分彆在界麵層生成瞭TiNx和SiNx等物種.
이용직류자공반응천사법재Si기저상제비료Ti/ZrN2/Si다층박막,이용아헐심도부석화선형분석연구료진공열처리전후막층간적계면상태급상호작용.연구결과표명,Ti막화ZrN2막균재침적과정중발생료계면확산작용,진공열처리가이현저지증강Ti/ZrN2/Si막층간적계면확산화화학반응,병분별재계면층생성료TiNx화SiNx등물충.
