金属学报
金屬學報
금속학보
ACTA METALLURGICA SINICA
2000年
1期
72-76
,共5页
裴志亮%谭明晖%陈猛%孙超%黄荣芳%闻立时
裴誌亮%譚明暉%陳猛%孫超%黃榮芳%聞立時
배지량%담명휘%진맹%손초%황영방%문립시
ZnO:Al薄膜%电阻空间分布%光电性能
ZnO:Al薄膜%電阻空間分佈%光電性能
ZnO:Al박막%전조공간분포%광전성능
用磁控反应溅射法制备了ZnO:Al(简称ZAO)薄膜,研究了薄膜方块电阻空间分布的均匀性及微观形貌,并对ZnO:Al薄膜表面各元素的化学状态和深度分布进行了XPS和AES分析,同时也讨论了薄膜的光学电学性能.
用磁控反應濺射法製備瞭ZnO:Al(簡稱ZAO)薄膜,研究瞭薄膜方塊電阻空間分佈的均勻性及微觀形貌,併對ZnO:Al薄膜錶麵各元素的化學狀態和深度分佈進行瞭XPS和AES分析,同時也討論瞭薄膜的光學電學性能.
용자공반응천사법제비료ZnO:Al(간칭ZAO)박막,연구료박막방괴전조공간분포적균균성급미관형모,병대ZnO:Al박막표면각원소적화학상태화심도분포진행료XPS화AES분석,동시야토론료박막적광학전학성능.
