发光学报
髮光學報
발광학보
CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE
2003年
1期
69-72
,共4页
王卿璞%张德恒%薛忠营%陈寿花%马洪磊
王卿璞%張德恆%薛忠營%陳壽花%馬洪磊
왕경박%장덕항%설충영%진수화%마홍뢰
ZnO薄膜%磁控溅射%光致发光
ZnO薄膜%磁控濺射%光緻髮光
ZnO박막%자공천사%광치발광
利用射频磁控溅射法在硅衬底上制备出具有(002)择优取向的氧化锌薄膜,用波长为300nm的光激发,观察到在446nm处有一强的光致发光峰,它来自于氧空位浅施主能级上的电子到价带上的跃迁.并讨论了发光峰与氧压的关系以及退火对它的影响,且给出了解释.
利用射頻磁控濺射法在硅襯底上製備齣具有(002)擇優取嚮的氧化鋅薄膜,用波長為300nm的光激髮,觀察到在446nm處有一彊的光緻髮光峰,它來自于氧空位淺施主能級上的電子到價帶上的躍遷.併討論瞭髮光峰與氧壓的關繫以及退火對它的影響,且給齣瞭解釋.
이용사빈자공천사법재규츤저상제비출구유(002)택우취향적양화자박막,용파장위300nm적광격발,관찰도재446nm처유일강적광치발광봉,타래자우양공위천시주능급상적전자도개대상적약천.병토론료발광봉여양압적관계이급퇴화대타적영향,차급출료해석.
