半导体学报
半導體學報
반도체학보
CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
2002年
11期
1196-1200
,共5页
邓晓清%杨沁清%王红杰%胡雄伟%王启明
鄧曉清%楊沁清%王紅傑%鬍雄偉%王啟明
산효청%양심청%왕홍걸%호웅위%왕계명
有限元%应力%硅基二氧化硅波导%双折射效应
有限元%應力%硅基二氧化硅波導%雙摺射效應
유한원%응력%규기이양화규파도%쌍절사효응
使用有限元方法分析了硅基二氧化硅光波导的应力分布,结果表明波导主要受横向压应力影响,而且应力主要集中在芯区和包层的界面附近.根据波导的应力分布,得出波导的折射率分布,并使用ADI全矢量方法求解出波导的模式折射率.比较考虑应力和未考虑应力的波导模式折射率可以得出:波导的双折射效应主要是由于波导应力引起的,阵列波导光栅的偏振相关与中心波长的漂移是受阵列波导的应力分布的影响.
使用有限元方法分析瞭硅基二氧化硅光波導的應力分佈,結果錶明波導主要受橫嚮壓應力影響,而且應力主要集中在芯區和包層的界麵附近.根據波導的應力分佈,得齣波導的摺射率分佈,併使用ADI全矢量方法求解齣波導的模式摺射率.比較攷慮應力和未攷慮應力的波導模式摺射率可以得齣:波導的雙摺射效應主要是由于波導應力引起的,陣列波導光柵的偏振相關與中心波長的漂移是受陣列波導的應力分佈的影響.
사용유한원방법분석료규기이양화규광파도적응력분포,결과표명파도주요수횡향압응력영향,이차응력주요집중재심구화포층적계면부근.근거파도적응력분포,득출파도적절사솔분포,병사용ADI전시량방법구해출파도적모식절사솔.비교고필응력화미고필응력적파도모식절사솔가이득출:파도적쌍절사효응주요시유우파도응력인기적,진렬파도광책적편진상관여중심파장적표이시수진렬파도적응력분포적영향.
