电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2011年
10期
5-8
,共4页
镍%碳化钨%纳米复合镀层%显微硬度%耐腐蚀性%耐磨蚀性
鎳%碳化鎢%納米複閤鍍層%顯微硬度%耐腐蝕性%耐磨蝕性
얼%탄화오%납미복합도층%현미경도%내부식성%내마식성
采用电镀的方法制备出Ni-WC纳米复合镀层,镀液组成为:NiSO4·7H2O 250 g/L,NiCl2·6H2O 30 g/L,H3BO3 30 g/L,光亮剂0.1 g/L,纳米WC颗粒5～ 30 g/L,表面活性剂及分散剂适量.研究了温度、电流密度及pH对复合镀层外观的影响,得到最佳电镀工艺条件为:温度50～55℃,电流密度2～4A/dm2,pH 4.5～ 5.0.在最佳工艺条件下制得的复合镀层,其显微硬度明显高于纯镍镀层和不锈钢,耐磨蚀性也优于不锈钢和纯镍镀层,耐腐蚀性优于不锈钢而劣于纯镍镀层.
採用電鍍的方法製備齣Ni-WC納米複閤鍍層,鍍液組成為:NiSO4·7H2O 250 g/L,NiCl2·6H2O 30 g/L,H3BO3 30 g/L,光亮劑0.1 g/L,納米WC顆粒5～ 30 g/L,錶麵活性劑及分散劑適量.研究瞭溫度、電流密度及pH對複閤鍍層外觀的影響,得到最佳電鍍工藝條件為:溫度50～55℃,電流密度2～4A/dm2,pH 4.5～ 5.0.在最佳工藝條件下製得的複閤鍍層,其顯微硬度明顯高于純鎳鍍層和不鏽鋼,耐磨蝕性也優于不鏽鋼和純鎳鍍層,耐腐蝕性優于不鏽鋼而劣于純鎳鍍層.
채용전도적방법제비출Ni-WC납미복합도층,도액조성위:NiSO4·7H2O 250 g/L,NiCl2·6H2O 30 g/L,H3BO3 30 g/L,광량제0.1 g/L,납미WC과립5～ 30 g/L,표면활성제급분산제괄량.연구료온도、전류밀도급pH대복합도층외관적영향,득도최가전도공예조건위:온도50～55℃,전류밀도2～4A/dm2,pH 4.5～ 5.0.재최가공예조건하제득적복합도층,기현미경도명현고우순얼도층화불수강,내마식성야우우불수강화순얼도층,내부식성우우불수강이렬우순얼도층.
