传感器与微系统
傳感器與微繫統
전감기여미계통
TRANSDUCER AND MICROSYSTEM TECHNOLOGY
2007年
4期
18-20
,共3页
刘晓为%宋明浩%王喜莲%潘慧艳%揣容岩
劉曉為%宋明浩%王喜蓮%潘慧豔%揣容巖
류효위%송명호%왕희련%반혜염%췌용암
磁控溅射%低压化学气相淀积%多晶硅薄膜%应变系数%压阻特性
磁控濺射%低壓化學氣相澱積%多晶硅薄膜%應變繫數%壓阻特性
자공천사%저압화학기상정적%다정규박막%응변계수%압조특성
对磁控溅射和低压化学气相淀积(LPCVD)2种方法制备的多晶硅薄膜的电学和压阻特性进行了研究,并讨论了结晶化工艺对磁控溅射薄膜性质的影响.实验表明:LPCVD薄膜稳定性、重复性较好,应变系数可达到20以上;磁控溅射薄膜经适当结晶化工艺处理具有纳晶硅的结构特征,应变系数可达到80以上.利用扫描电镜(SEM)图片结合电阻率和应变系数的测试结果,讨论了2种方法制备出的多晶硅薄膜应用于压阻式力学量传感器的可行性.
對磁控濺射和低壓化學氣相澱積(LPCVD)2種方法製備的多晶硅薄膜的電學和壓阻特性進行瞭研究,併討論瞭結晶化工藝對磁控濺射薄膜性質的影響.實驗錶明:LPCVD薄膜穩定性、重複性較好,應變繫數可達到20以上;磁控濺射薄膜經適噹結晶化工藝處理具有納晶硅的結構特徵,應變繫數可達到80以上.利用掃描電鏡(SEM)圖片結閤電阻率和應變繫數的測試結果,討論瞭2種方法製備齣的多晶硅薄膜應用于壓阻式力學量傳感器的可行性.
대자공천사화저압화학기상정적(LPCVD)2충방법제비적다정규박막적전학화압조특성진행료연구,병토론료결정화공예대자공천사박막성질적영향.실험표명:LPCVD박막은정성、중복성교호,응변계수가체도20이상;자공천사박막경괄당결정화공예처리구유납정규적결구특정,응변계수가체도80이상.이용소묘전경(SEM)도편결합전조솔화응변계수적측시결과,토론료2충방법제비출적다정규박막응용우압조식역학량전감기적가행성.
