太阳能学报
太暘能學報
태양능학보
ACTA ENERGIAE SOLARIS SINICA
2011年
12期
1753-1757
,共5页
付志强%王成彪%岳文%彭志坚%郭文利%梁彤翔
付誌彊%王成彪%嶽文%彭誌堅%郭文利%樑彤翔
부지강%왕성표%악문%팽지견%곽문리%량동상
Al-AlN%选择性吸收涂层%中频反应溅射%工艺参数
Al-AlN%選擇性吸收塗層%中頻反應濺射%工藝參數
Al-AlN%선택성흡수도층%중빈반응천사%공예삼수
探讨了AlN膜和渐变Al-AlN选择性吸收涂层的中频溅射技术,结果表明:增大铝靶电流或减小氩气流量有助于改善AlN反应溅射的工艺稳定性；随着氮气流量的增加,AlN膜的N/Al原子比增大,减小氩气流量或增大铝靶电流对制备满足理想化学计量比的AlN膜有利；AlN膜的致密性随氮气流量和铝靶电流的增大而改善,但氩气流量对AlN致密性没有明显影响；制备的渐变Al-AlN选择性吸收涂层可见光反射率低于6％.光谱选择性较好.
探討瞭AlN膜和漸變Al-AlN選擇性吸收塗層的中頻濺射技術,結果錶明:增大鋁靶電流或減小氬氣流量有助于改善AlN反應濺射的工藝穩定性；隨著氮氣流量的增加,AlN膜的N/Al原子比增大,減小氬氣流量或增大鋁靶電流對製備滿足理想化學計量比的AlN膜有利；AlN膜的緻密性隨氮氣流量和鋁靶電流的增大而改善,但氬氣流量對AlN緻密性沒有明顯影響；製備的漸變Al-AlN選擇性吸收塗層可見光反射率低于6％.光譜選擇性較好.
탐토료AlN막화점변Al-AlN선택성흡수도층적중빈천사기술,결과표명:증대려파전류혹감소아기류량유조우개선AlN반응천사적공예은정성；수착담기류량적증가,AlN막적N/Al원자비증대,감소아기류량혹증대려파전류대제비만족이상화학계량비적AlN막유리；AlN막적치밀성수담기류량화려파전류적증대이개선,단아기류량대AlN치밀성몰유명현영향；제비적점변Al-AlN선택성흡수도층가견광반사솔저우6％.광보선택성교호.
