光电子·激光
光電子·激光
광전자·격광
JOURNAL OF OPTOECTRONICS·LASER
2005年
2期
140-145
,共6页
孟志国%彭华君%吴春亚%李娟%熊绍珍%丘成峰%李娟娟%王文%郭海成
孟誌國%彭華君%吳春亞%李娟%熊紹珍%丘成峰%李娟娟%王文%郭海成
맹지국%팽화군%오춘아%리연%웅소진%구성봉%리연연%왕문%곽해성
彩色过滤膜%氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜%室温直流磁控溅射%脱膜图形微细加工%有机发光显示(OLCD)%液晶显示(LCD)
綵色過濾膜%氧化銦錫(ITO)透明導電薄膜%室溫直流磁控濺射%脫膜圖形微細加工%有機髮光顯示(OLCD)%液晶顯示(LCD)
채색과려막%양화인석(ITO)투명도전박막%실온직류자공천사%탈막도형미세가공%유궤발광현시(OLCD)%액정현시(LCD)
使用直流磁控溅射技术,在彩色膜衬底上室温制备出粘附性良好的氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜.X光衍射(XRD)和原子力显微(AFM)分析表明,室温ITO为多晶态,薄膜具有很好的透过率和良好的导电特性,方块电阻为120 Ω/□,对应ITO/彩色膜复合膜在450 nm的蓝(B)光、530 nm的绿(G)光、630 nm的红(R)光处的峰值透过率均达到85%左右.彩色膜与ITO电极的形成及联接等加工工艺有良好的相容性.对该技术在彩色液晶显示(LCD)和彩色有机发光显示(OLED)中的应用,进行了探索.
使用直流磁控濺射技術,在綵色膜襯底上室溫製備齣粘附性良好的氧化銦錫(ITO)透明導電薄膜.X光衍射(XRD)和原子力顯微(AFM)分析錶明,室溫ITO為多晶態,薄膜具有很好的透過率和良好的導電特性,方塊電阻為120 Ω/□,對應ITO/綵色膜複閤膜在450 nm的藍(B)光、530 nm的綠(G)光、630 nm的紅(R)光處的峰值透過率均達到85%左右.綵色膜與ITO電極的形成及聯接等加工工藝有良好的相容性.對該技術在綵色液晶顯示(LCD)和綵色有機髮光顯示(OLED)中的應用,進行瞭探索.
사용직류자공천사기술,재채색막츤저상실온제비출점부성량호적양화인석(ITO)투명도전박막.X광연사(XRD)화원자력현미(AFM)분석표명,실온ITO위다정태,박막구유흔호적투과솔화량호적도전특성,방괴전조위120 Ω/□,대응ITO/채색막복합막재450 nm적람(B)광、530 nm적록(G)광、630 nm적홍(R)광처적봉치투과솔균체도85%좌우.채색막여ITO전겁적형성급련접등가공공예유량호적상용성.대해기술재채색액정현시(LCD)화채색유궤발광현시(OLED)중적응용,진행료탐색.
