电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
2005年
1期
11-16
,共6页
王鸣生%王晶云%陈清%彭练矛
王鳴生%王晶雲%陳清%彭練矛
왕명생%왕정운%진청%팽련모
电子束致沉积%无定型碳纳米线%透射电子显微镜%器件构造
電子束緻沉積%無定型碳納米線%透射電子顯微鏡%器件構造
전자속치침적%무정형탄납미선%투사전자현미경%기건구조
用电子束致沉积(EBID)来制备各种纳米尺寸的结构在纳米材料的制备和器件构建方面有着良好的应用前景.相对于聚焦离子束(FIB),它具有对样品损伤小和所得结构尺寸更小等优点.此前,电子束致沉积的工作大多数在扫描电镜中完成,而在透射电镜中沉积直到近两年才发展起来.本文尝试在普通热发射透射电镜中,手动控制生长碳纳米线、点等结构.对碳纳米线的生长过程进行了原位观测,并对电子束斑的大小、形状和辐照时间对沉积物形状的影响作了初步的研究.最后对电子束致沉积可控生长无定型碳纳米线可能的应用作了一些探索.
用電子束緻沉積(EBID)來製備各種納米呎吋的結構在納米材料的製備和器件構建方麵有著良好的應用前景.相對于聚焦離子束(FIB),它具有對樣品損傷小和所得結構呎吋更小等優點.此前,電子束緻沉積的工作大多數在掃描電鏡中完成,而在透射電鏡中沉積直到近兩年纔髮展起來.本文嘗試在普通熱髮射透射電鏡中,手動控製生長碳納米線、點等結構.對碳納米線的生長過程進行瞭原位觀測,併對電子束斑的大小、形狀和輻照時間對沉積物形狀的影響作瞭初步的研究.最後對電子束緻沉積可控生長無定型碳納米線可能的應用作瞭一些探索.
용전자속치침적(EBID)래제비각충납미척촌적결구재납미재료적제비화기건구건방면유착량호적응용전경.상대우취초리자속(FIB),타구유대양품손상소화소득결구척촌경소등우점.차전,전자속치침적적공작대다수재소묘전경중완성,이재투사전경중침적직도근량년재발전기래.본문상시재보통열발사투사전경중,수동공제생장탄납미선、점등결구.대탄납미선적생장과정진행료원위관측,병대전자속반적대소、형상화복조시간대침적물형상적영향작료초보적연구.최후대전자속치침적가공생장무정형탄납미선가능적응용작료일사탐색.
