CAJ | 학술논문

采用微波等离子体化学气相沉淀法合成了单晶金刚石膜,探索了化学气相沉淀法(CVD)单晶金刚石膜的生长机理.实验仪器采用石英管式微波等离子体化学气相沉积装置,种晶为3颗IaAB型天然金刚石原石,生长面近平行于(111)和(110)方向,生长温度为800℃,压力约为6 kPa,时间约为8 h.使用宝石显微镜和环境扫描电子显微镜观察分析了CVD单晶金刚石膜的生长表面形貌.结果表明,在生长面上可见明显的生长层,生长晶体无色透明,CVD单晶金刚石膜在生长面上横向外延生长,并形成定向的台阶状表面--"阶梯流".在相同的条件下,(111)方向上生长的CVD单晶金刚石膜比(110)方向上的更有序.H2浓度的大小对CVD单晶金刚石膜的质量有影响.
채용미파등리자체화학기상침정법합성료단정금강석막,탐색료화학기상침정법(CVD)단정금강석막적생장궤리.실험의기채용석영관식미파등리자체화학기상침적장치,충정위3과IaAB형천연금강석원석,생장면근평행우(111)화(110)방향,생장온도위800℃,압력약위6 kPa,시간약위8 h.사용보석현미경화배경소묘전자현미경관찰분석료CVD단정금강석막적생장표면형모.결과표명,재생장면상가견명현적생장층,생장정체무색투명,CVD단정금강석막재생장면상횡향외연생장,병형성정향적태계상표면--"계제류".재상동적조건하,(111)방향상생장적CVD단정금강석막비(110)방향상적경유서.H2농도적대소대CVD단정금강석막적질량유영향.