光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2011年
10期
1505-1508
,共4页
田嘉彤%冯仕猛%王坤霞%徐华天%刘峰%黄建华%杨树泉%裴俊
田嘉彤%馮仕猛%王坤霞%徐華天%劉峰%黃建華%楊樹泉%裴俊
전가동%풍사맹%왕곤하%서화천%류봉%황건화%양수천%배준
单晶硅%微结构%绒面
單晶硅%微結構%絨麵
단정규%미결구%융면
在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2 mL的刻蚀液中,经过10 min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区；刻蚀15 min后金字塔大小趋向一致,平滑区面积缩小；刻蚀20 min硅片表面形成平均尺寸为2～4 μm金字塔绒面结构,并且均匀性好、覆盖率高；刻蚀25 min后,进入过腐蚀阶段,金字塔出现变大的现象.研究表明:与传统碱腐蚀相比,添加剂可以缩短单晶硅刻蚀时间,并获得较为理想的绒面结构,在工业上应用可以降低生产成本和生产时间,提高生产率.
在普通堿液中添加一種特殊的添加劑,在不同時間下對單晶硅錶麵進行刻蝕.用掃描電子顯微鏡觀察樣品錶麵形貌,結果顯示:單晶硅片放入加入添加劑2 mL的刻蝕液中,經過10 min刻蝕後晶體錶麵零星齣現大小不一的金字塔,併有大麵積的平滑區；刻蝕15 min後金字塔大小趨嚮一緻,平滑區麵積縮小；刻蝕20 min硅片錶麵形成平均呎吋為2～4 μm金字塔絨麵結構,併且均勻性好、覆蓋率高；刻蝕25 min後,進入過腐蝕階段,金字塔齣現變大的現象.研究錶明:與傳統堿腐蝕相比,添加劑可以縮短單晶硅刻蝕時間,併穫得較為理想的絨麵結構,在工業上應用可以降低生產成本和生產時間,提高生產率.
재보통감액중첨가일충특수적첨가제,재불동시간하대단정규표면진행각식.용소묘전자현미경관찰양품표면형모,결과현시:단정규편방입가입첨가제2 mL적각식액중,경과10 min각식후정체표면령성출현대소불일적금자탑,병유대면적적평활구；각식15 min후금자탑대소추향일치,평활구면적축소；각식20 min규편표면형성평균척촌위2～4 μm금자탑융면결구,병차균균성호、복개솔고；각식25 min후,진입과부식계단,금자탑출현변대적현상.연구표명:여전통감부식상비,첨가제가이축단단정규각식시간,병획득교위이상적융면결구,재공업상응용가이강저생산성본화생산시간,제고생산솔.
