电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2009年
3期
5-8,21
,共5页
李慧%郝晓刚%段东红%张忠林%马旭莉%刘世斌
李慧%郝曉剛%段東紅%張忠林%馬旭莉%劉世斌
리혜%학효강%단동홍%장충림%마욱리%류세빈
电化学控制离子分离%铁氰化铜%铁氰化钴%铁氰化铜钴复合膜%电化学石英晶体微天平
電化學控製離子分離%鐵氰化銅%鐵氰化鈷%鐵氰化銅鈷複閤膜%電化學石英晶體微天平
전화학공제리자분리%철청화동%철청화고%철청화동고복합막%전화학석영정체미천평
采用电沉积法在铂基体上制备出电活性铁氰化铜钴复合膜.在0.1mol/LKNO3溶液中采用循环伏安法并结合电化学石英晶体微天平技术考察了复合膜的电化学行为以及循环寿命.并在0.1mol/L(KNO3+CsNO3)溶液中测定不同混合浓度下复合薄膜的伏安曲线,分析了薄膜对Cs+和K+的选择性.实验表明:铁氰化铜钴复合膜是一种取代型杂化铁氰化物,非单一膜的简单组合.具有良好的离子交换特性及选择性,且循环寿命好于单膜,具备电化学控制离子分离膜的初步特征.
採用電沉積法在鉑基體上製備齣電活性鐵氰化銅鈷複閤膜.在0.1mol/LKNO3溶液中採用循環伏安法併結閤電化學石英晶體微天平技術攷察瞭複閤膜的電化學行為以及循環壽命.併在0.1mol/L(KNO3+CsNO3)溶液中測定不同混閤濃度下複閤薄膜的伏安麯線,分析瞭薄膜對Cs+和K+的選擇性.實驗錶明:鐵氰化銅鈷複閤膜是一種取代型雜化鐵氰化物,非單一膜的簡單組閤.具有良好的離子交換特性及選擇性,且循環壽命好于單膜,具備電化學控製離子分離膜的初步特徵.
채용전침적법재박기체상제비출전활성철청화동고복합막.재0.1mol/LKNO3용액중채용순배복안법병결합전화학석영정체미천평기술고찰료복합막적전화학행위이급순배수명.병재0.1mol/L(KNO3+CsNO3)용액중측정불동혼합농도하복합박막적복안곡선,분석료박막대Cs+화K+적선택성.실험표명:철청화동고복합막시일충취대형잡화철청화물,비단일막적간단조합.구유량호적리자교환특성급선택성,차순배수명호우단막,구비전화학공제리자분리막적초보특정.
