光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2008年
3期
485-489
,共5页
杨晓东%张景文%毕臻%贺永宁%侯洵
楊曉東%張景文%畢臻%賀永寧%侯洵
양효동%장경문%필진%하영저%후순
氧化锌%激光分子束外延%小角度X射线分析%X射线反射率
氧化鋅%激光分子束外延%小角度X射線分析%X射線反射率
양화자%격광분자속외연%소각도X사선분석%X사선반사솔
利用激光分子束外延(L-MBE)技术在α-Al2O3(0001)衬底上生长出了沿C轴高度择优取向的ZnO外延薄膜,并采用Philips四晶高分辨X射线衍射仪(Philip's X'Pert HR-MRD)对ZnO薄膜的表面及结构特性进行了研究.应用小角度X射线分析方法(GIXA)对ZnO薄膜的表面以及ZnO/Al2O3界面状况进行了定量表征.X射线反射率(XRR)曲线出现了清晰的源于良好表面及界面特性的Kiessig干涉振荡峰,通过对其精确拟合求得ZnO薄膜的表面及界面粗糙度分别为0.34 nm和1.12 nm.ZnO薄膜与α-Al2O3(0001)衬底的XRD在面(in-plane) Φ扫描结果表明形成了单一的平行畴(Aligned in-plane Oriented Domains),其在面外延关系为ZnO[1010] ||Al2O3[1120].XRD ω-2θ扫描以及ω摇摆曲线半峰宽分别为0.12度和1.27度,这一结果表明通过形成平行畴及晶格驰豫过程,ZnO薄膜中的应力得到了有效的释放,但同时也引入了螺位错.
利用激光分子束外延(L-MBE)技術在α-Al2O3(0001)襯底上生長齣瞭沿C軸高度擇優取嚮的ZnO外延薄膜,併採用Philips四晶高分辨X射線衍射儀(Philip's X'Pert HR-MRD)對ZnO薄膜的錶麵及結構特性進行瞭研究.應用小角度X射線分析方法(GIXA)對ZnO薄膜的錶麵以及ZnO/Al2O3界麵狀況進行瞭定量錶徵.X射線反射率(XRR)麯線齣現瞭清晰的源于良好錶麵及界麵特性的Kiessig榦涉振盪峰,通過對其精確擬閤求得ZnO薄膜的錶麵及界麵粗糙度分彆為0.34 nm和1.12 nm.ZnO薄膜與α-Al2O3(0001)襯底的XRD在麵(in-plane) Φ掃描結果錶明形成瞭單一的平行疇(Aligned in-plane Oriented Domains),其在麵外延關繫為ZnO[1010] ||Al2O3[1120].XRD ω-2θ掃描以及ω搖襬麯線半峰寬分彆為0.12度和1.27度,這一結果錶明通過形成平行疇及晶格馳豫過程,ZnO薄膜中的應力得到瞭有效的釋放,但同時也引入瞭螺位錯.
이용격광분자속외연(L-MBE)기술재α-Al2O3(0001)츤저상생장출료연C축고도택우취향적ZnO외연박막,병채용Philips사정고분변X사선연사의(Philip's X'Pert HR-MRD)대ZnO박막적표면급결구특성진행료연구.응용소각도X사선분석방법(GIXA)대ZnO박막적표면이급ZnO/Al2O3계면상황진행료정량표정.X사선반사솔(XRR)곡선출현료청석적원우량호표면급계면특성적Kiessig간섭진탕봉,통과대기정학의합구득ZnO박막적표면급계면조조도분별위0.34 nm화1.12 nm.ZnO박막여α-Al2O3(0001)츤저적XRD재면(in-plane) Φ소묘결과표명형성료단일적평행주(Aligned in-plane Oriented Domains),기재면외연관계위ZnO[1010] ||Al2O3[1120].XRD ω-2θ소묘이급ω요파곡선반봉관분별위0.12도화1.27도,저일결과표명통과형성평행주급정격치예과정,ZnO박막중적응력득도료유효적석방,단동시야인입료라위착.