磁控溅射沉积薄膜预溅射时间的光谱诊断
자공천사침적박막예천사시간적광보진단
Spectrum Diagnostics for the Time of Pre-Sputtering in Thin Films Deposited by Magnetron Puttering
  • 万方数据
    光谱学与光谱分析 광보학여광보분석
    SPECTROSCOPY AND SPECTRAL ANALYSIS
    2013年 3期 595-599 ,共5页

    郭庆林%范青%崔永亮%董开虎%张磊%李旭%张金平%陈金忠

    곽경림%범청%최영량%동개호%장뢰%리욱%장금평%진금충

    等离子体发射光谱%光谱分析%磁控溅射%预溅射时间 等離子體髮射光譜%光譜分析%磁控濺射%預濺射時間
    등리자체발사광보%광보분석%자공천사%예천사시간
    利用Omni-λ300系列光栅光谱仪、CCD数据采集和处理系统以及光纤导光系统等构成的等离子体光谱分析系统,实现了实时获取射频磁控溅射过程中等离子体光谱,分别对NiTa,TiAl陶瓷靶,NiAl,TiAl合金靶四种靶材的磁控溅射过程产生的等离子体进行监测,以TaⅡ333.991nm,NiⅠ 362.473nm,AlⅠ 396.153nrn和TiⅠ 398.176nm为分析线,获得了分析谱线强度随时间的变化规律,并以此为依据确定了预溅射时间,同时研究了不同溅射功率和压强对预溅射时间的影响.
    이용Omni-λ300계렬광책광보의、CCD수거채집화처리계통이급광섬도광계통등구성적등리자체광보분석계통,실현료실시획취사빈자공천사과정중등리자체광보,분별대NiTa,TiAl도자파,NiAl,TiAl합금파사충파재적자공천사과정산생적등리자체진행감측,이TaⅡ333.991nm,NiⅠ 362.473nm,AlⅠ 396.153nrn화TiⅠ 398.176nm위분석선,획득료분석보선강도수시간적변화규률,병이차위의거학정료예천사시간,동시연구료불동천사공솔화압강대예천사시간적영향.
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