冶金分析
冶金分析
야금분석
METALLURGICAL ANALYSIS
2013年
7期
21-24
,共4页
尹赫南%戴伟建%张思宝%葛慎光%李帅%颜梅%黄世峰
尹赫南%戴偉建%張思寶%葛慎光%李帥%顏梅%黃世峰
윤혁남%대위건%장사보%갈신광%리수%안매%황세봉
CdTe量子点%双硫腙%铜%荧光开关
CdTe量子點%雙硫腙%銅%熒光開關
CdTe양자점%쌍류종%동%형광개관
CdTe quantum dots%dithizone%copper%fluorescence switch
CdTe量子点表面包覆双硫腙,由于双硫腙与CdTe量子点之间发生荧光共振能量转移使得CdTe量子点荧光猝灭,铜的加入与双硫腙形成双齿螯合物,使得CdTe量子点荧光能量转移被阻止,CdTe量子点荧光强度得以恢复,由此建立了一种荧光开关测定痕量铜的新方法.在最佳条件下,0.5 mL双硫腙@CdTe量子点(Dit@CdTe),1.5 mL pH 7.5的Tris-HCl缓冲溶液中加入不同浓度的Cu2+,放置10 min,于激发波长/发射波长为431 nm/591 nm下进行荧光测定,荧光增强强度与Cu2浓度在0.01～10.0μmol/L范围内呈良好线性关系,相关系数为0.990 3,检出限为0.004μmol/L.方法用于实际水样中铜的测定,相对标准偏差小于6.8％,回收率在97％～105％之间,并且测定结果与电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定结果一致.
CdTe量子點錶麵包覆雙硫腙,由于雙硫腙與CdTe量子點之間髮生熒光共振能量轉移使得CdTe量子點熒光猝滅,銅的加入與雙硫腙形成雙齒螯閤物,使得CdTe量子點熒光能量轉移被阻止,CdTe量子點熒光彊度得以恢複,由此建立瞭一種熒光開關測定痕量銅的新方法.在最佳條件下,0.5 mL雙硫腙@CdTe量子點(Dit@CdTe),1.5 mL pH 7.5的Tris-HCl緩遲溶液中加入不同濃度的Cu2+,放置10 min,于激髮波長/髮射波長為431 nm/591 nm下進行熒光測定,熒光增彊彊度與Cu2濃度在0.01～10.0μmol/L範圍內呈良好線性關繫,相關繫數為0.990 3,檢齣限為0.004μmol/L.方法用于實際水樣中銅的測定,相對標準偏差小于6.8％,迴收率在97％～105％之間,併且測定結果與電感耦閤等離子體質譜法(ICP-MS)測定結果一緻.
CdTe양자점표면포복쌍류종,유우쌍류종여CdTe양자점지간발생형광공진능량전이사득CdTe양자점형광졸멸,동적가입여쌍류종형성쌍치오합물,사득CdTe양자점형광능량전이피조지,CdTe양자점형광강도득이회복,유차건립료일충형광개관측정흔량동적신방법.재최가조건하,0.5 mL쌍류종@CdTe양자점(Dit@CdTe),1.5 mL pH 7.5적Tris-HCl완충용액중가입불동농도적Cu2+,방치10 min,우격발파장/발사파장위431 nm/591 nm하진행형광측정,형광증강강도여Cu2농도재0.01～10.0μmol/L범위내정량호선성관계,상관계수위0.990 3,검출한위0.004μmol/L.방법용우실제수양중동적측정,상대표준편차소우6.8％,회수솔재97％～105％지간,병차측정결과여전감우합등리자체질보법(ICP-MS)측정결과일치.
