电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
2013年
4期
331-336
,共6页
陈建%秦志辉%卢双赞%曹更玉
陳建%秦誌輝%盧雙讚%曹更玉
진건%진지휘%로쌍찬%조경옥
金属富勒烯%扫描隧道显微镜%吸附结构
金屬富勒烯%掃描隧道顯微鏡%吸附結構
금속부륵희%소묘수도현미경%흡부결구
metallofullerene%scanning tunneling microscopy%adsorption structure
利用扫描隧道显微镜(STM)研究分析了内嵌金属富勒烯分子Gd@C82在Cu(111)和Pt(111)上的低温(200 ～250 K)生长方式和吸附结构.不同强弱的分子-衬底间相互作用导致Gd@C82在Cu(111)和Pt(111)上的生长方式有很大区别.经过热处理后,Gd@C82分子诱导Cu(111)衬底发生重构,而在Pt(111)上未发现此现象.两种金属衬底不同的晶格常数和电子性质导致退火后的分子自组装结构也不一样:Gd@C82在Cu(111)上形成等价的两种吸附结构,即(√19 × √19)R23.4°和(√19×√19) R36.6°；分子在Pt(111)上形成一种与<1(1)0>方向一致的密堆积结构.
利用掃描隧道顯微鏡(STM)研究分析瞭內嵌金屬富勒烯分子Gd@C82在Cu(111)和Pt(111)上的低溫(200 ～250 K)生長方式和吸附結構.不同彊弱的分子-襯底間相互作用導緻Gd@C82在Cu(111)和Pt(111)上的生長方式有很大區彆.經過熱處理後,Gd@C82分子誘導Cu(111)襯底髮生重構,而在Pt(111)上未髮現此現象.兩種金屬襯底不同的晶格常數和電子性質導緻退火後的分子自組裝結構也不一樣:Gd@C82在Cu(111)上形成等價的兩種吸附結構,即(√19 × √19)R23.4°和(√19×√19) R36.6°；分子在Pt(111)上形成一種與<1(1)0>方嚮一緻的密堆積結構.
이용소묘수도현미경(STM)연구분석료내감금속부륵희분자Gd@C82재Cu(111)화Pt(111)상적저온(200 ～250 K)생장방식화흡부결구.불동강약적분자-츤저간상호작용도치Gd@C82재Cu(111)화Pt(111)상적생장방식유흔대구별.경과열처리후,Gd@C82분자유도Cu(111)츤저발생중구,이재Pt(111)상미발현차현상.량충금속츤저불동적정격상수화전자성질도치퇴화후적분자자조장결구야불일양:Gd@C82재Cu(111)상형성등개적량충흡부결구,즉(√19 × √19)R23.4°화(√19×√19) R36.6°；분자재Pt(111)상형성일충여<1(1)0>방향일치적밀퇴적결구.
