电子显微学报
電子顯微學報
전자현미학보
JOURNAL OF CHINESE ELECTRON MICROSCOPY SOCIETY
2013年
3期
187-191
,共5页
于奕%章晓中%杨军杰%王嘉维%赵永刚
于奕%章曉中%楊軍傑%王嘉維%趙永剛
우혁%장효중%양군걸%왕가유%조영강
多铁性%六方锰氧化物%透射电子显微术%异相边界
多鐵性%六方錳氧化物%透射電子顯微術%異相邊界
다철성%륙방맹양화물%투사전자현미술%이상변계
multiferroic%hexagonal manganite%transmission electron microscopy%out-of-phase boundary
多铁性六方锰氧化物RMnO3(R-Y,Ho-Lu)具有丰富的结构与物理内涵,是近年来凝聚态物理与材料科学领域的研究热点.本文利用透射电子显微术对钇稳定氧化锆(yttria-stabilized zirconia,YSZ)基底上外延生长的HoMnO3薄膜的微结构进行表征.研究结果表明,c轴取向的HoMnO3薄膜可以在YSZ(111)基底上实现良好的外延.薄膜中的主要缺陷为异相边界(out-of-phase boundary,OPB).OPB的产生归因于表面台阶机制和形核层机制.OPB缺陷处会出现化学计量比失衡,实验上观察到富Ho和富Mn两种类型的OPB,这些化学计量比失衡的缺陷会对薄膜的电学性能产生影响.本文研究结果有助于深入理解六方锰氧化物薄膜结构与物理性能之间的关系.
多鐵性六方錳氧化物RMnO3(R-Y,Ho-Lu)具有豐富的結構與物理內涵,是近年來凝聚態物理與材料科學領域的研究熱點.本文利用透射電子顯微術對釔穩定氧化鋯(yttria-stabilized zirconia,YSZ)基底上外延生長的HoMnO3薄膜的微結構進行錶徵.研究結果錶明,c軸取嚮的HoMnO3薄膜可以在YSZ(111)基底上實現良好的外延.薄膜中的主要缺陷為異相邊界(out-of-phase boundary,OPB).OPB的產生歸因于錶麵檯階機製和形覈層機製.OPB缺陷處會齣現化學計量比失衡,實驗上觀察到富Ho和富Mn兩種類型的OPB,這些化學計量比失衡的缺陷會對薄膜的電學性能產生影響.本文研究結果有助于深入理解六方錳氧化物薄膜結構與物理性能之間的關繫.
다철성륙방맹양화물RMnO3(R-Y,Ho-Lu)구유봉부적결구여물리내함,시근년래응취태물리여재료과학영역적연구열점.본문이용투사전자현미술대을은정양화고(yttria-stabilized zirconia,YSZ)기저상외연생장적HoMnO3박막적미결구진행표정.연구결과표명,c축취향적HoMnO3박막가이재YSZ(111)기저상실현량호적외연.박막중적주요결함위이상변계(out-of-phase boundary,OPB).OPB적산생귀인우표면태계궤제화형핵층궤제.OPB결함처회출현화학계량비실형,실험상관찰도부Ho화부Mn량충류형적OPB,저사화학계량비실형적결함회대박막적전학성능산생영향.본문연구결과유조우심입리해륙방맹양화물박막결구여물이성능지간적관계.
