强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2013年
8期
2091-2095
,共5页
邓泽超%胡自强%张晓龙%褚立志%丁学成%梁伟华%王英龙
鄧澤超%鬍自彊%張曉龍%褚立誌%丁學成%樑偉華%王英龍
산택초%호자강%장효룡%저립지%정학성%량위화%왕영룡
脉冲激光烧蚀%电场%朗缪尔探针%成核区
脈遲激光燒蝕%電場%朗繆爾探針%成覈區
맥충격광소식%전장%랑무이탐침%성핵구
pulsed laser ablation%electric field%Langmuir probe%nucleation region
在室温和10 Pa氩气环境中,引入平行于靶面方向的直流电场,通过改变脉冲激光能量密度烧蚀单晶硅靶,在与羽辉轴线呈不同角度的衬底上沉积纳米硅晶薄膜.利用扫描电子显微镜和拉曼散射谱对沉积样品进行分析,结果表明:随着激光能量密度的增加,位于相同角度衬底上的晶粒尺寸和面密度逐渐变大；在同一激光能量密度下,零度角处衬底上的晶粒尺寸和面密度最大,且靠近接地极板处的值比与之对称角度处略大.通过朗缪尔探针对不同能量密度下烧蚀羽辉中硅离子密度变化的诊断、结合成核区内晶粒成核生长动力学过程,对晶粒分布特性进行了分析.
在室溫和10 Pa氬氣環境中,引入平行于靶麵方嚮的直流電場,通過改變脈遲激光能量密度燒蝕單晶硅靶,在與羽輝軸線呈不同角度的襯底上沉積納米硅晶薄膜.利用掃描電子顯微鏡和拉曼散射譜對沉積樣品進行分析,結果錶明:隨著激光能量密度的增加,位于相同角度襯底上的晶粒呎吋和麵密度逐漸變大；在同一激光能量密度下,零度角處襯底上的晶粒呎吋和麵密度最大,且靠近接地極闆處的值比與之對稱角度處略大.通過朗繆爾探針對不同能量密度下燒蝕羽輝中硅離子密度變化的診斷、結閤成覈區內晶粒成覈生長動力學過程,對晶粒分佈特性進行瞭分析.
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