强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2013年
8期
2000-2006
,共7页
多孔氧化铝模板%阻挡层%交流电沉积%金纳米线
多孔氧化鋁模闆%阻擋層%交流電沉積%金納米線
다공양화려모판%조당층%교류전침적%금납미선
porous aluminum oxide template%barrier layer%AC electrodeposition%Au nanowire
使用交流电沉积在多孔氧化铝模板中制备金纳米线,对交流电沉积时阻挡层厚度、交流电压、交流频率等因素进行了系统的研究和探讨.使用交流电沉积制备出了直径30 nm、长度2.1μm的形貌完好、长度均一的金纳米阵列.结果表明模板的阻挡层厚度能够显著影响金属的沉积电位,是保证沉积顺利进行的重要因素.通过记录、分析不同条件下交流沉积过程中时间-电流曲线来对交流沉积过程进行深入研究并提出相应机理.发现同频率下平台电流值不变,纳米线的长度与交流电压大小成正比,而同电压下沉积的平台电流与交流电频率成正比,这些都与阻挡层的半导体特性有关.
使用交流電沉積在多孔氧化鋁模闆中製備金納米線,對交流電沉積時阻擋層厚度、交流電壓、交流頻率等因素進行瞭繫統的研究和探討.使用交流電沉積製備齣瞭直徑30 nm、長度2.1μm的形貌完好、長度均一的金納米陣列.結果錶明模闆的阻擋層厚度能夠顯著影響金屬的沉積電位,是保證沉積順利進行的重要因素.通過記錄、分析不同條件下交流沉積過程中時間-電流麯線來對交流沉積過程進行深入研究併提齣相應機理.髮現同頻率下平檯電流值不變,納米線的長度與交流電壓大小成正比,而同電壓下沉積的平檯電流與交流電頻率成正比,這些都與阻擋層的半導體特性有關.
사용교류전침적재다공양화려모판중제비금납미선,대교류전침적시조당층후도、교류전압、교류빈솔등인소진행료계통적연구화탐토.사용교류전침적제비출료직경30 nm、장도2.1μm적형모완호、장도균일적금납미진렬.결과표명모판적조당층후도능구현저영향금속적침적전위,시보증침적순리진행적중요인소.통과기록、분석불동조건하교류침적과정중시간-전류곡선래대교류침적과정진행심입연구병제출상응궤리.발현동빈솔하평태전류치불변,납미선적장도여교류전압대소성정비,이동전압하침적적평태전류여교류전빈솔성정비,저사도여조당층적반도체특성유관.
