CAJ | 학술논문

由于电离层中分子性离子与电子的复合要比氧离子与电子的复合快得多,因此H2在电离层高度释放可有效地引起电子的消耗.本文基于一个包括中性气体扩散方程和离子化学反应方程的二维动力学模型,对H2在电离层高度释放过程进行了数值模拟研究,并分析了不同释放条件下的电子扰动特性.结果表明:1)500 mol H2释放后,迅速向周围空间扩散,释放中心处的电子密度30 s内下降了近4％,F2层临界频率下降了1％左右；2)在不同高度处释放H2时,最大的电子密度相对变化率并不是在峰值高度附近处释放时出现的；3)释放化学物质的量越多,电子密度的扰动幅度也越大,但两者之间并不存在线性关系；4)相同量的H2在电离层峰值高度处释放,白天的电子密度扰动幅度要大于夜间的扰动幅度.
유우전리층중분자성리자여전자적복합요비양리자여전자적복합쾌득다,인차H2재전리층고도석방가유효지인기전자적소모.본문기우일개포괄중성기체확산방정화리자화학반응방정적이유동역학모형,대H2재전리층고도석방과정진행료수치모의연구,병분석료불동석방조건하적전자우동특성.결과표명:1)500 mol H2석방후,신속향주위공간확산,석방중심처적전자밀도30 s내하강료근4％,F2층림계빈솔하강료1％좌우；2)재불동고도처석방H2시,최대적전자밀도상대변화솔병불시재봉치고도부근처석방시출현적；3)석방화학물질적량월다,전자밀도적우동폭도야월대,단량자지간병불존재선성관계；4)상동량적H2재전리층봉치고도처석방,백천적전자밀도우동폭도요대우야간적우동폭도.