固体电子学研究与进展
固體電子學研究與進展
고체전자학연구여진전
RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
2013年
4期
351-354
,共4页
麻华丽%张新月%曾凡光%王淦平%向飞
痳華麗%張新月%曾凡光%王淦平%嚮飛
마화려%장신월%증범광%왕감평%향비
连续强流脉冲发射%碳纳米管%化学镀铜%稳定性
連續彊流脈遲髮射%碳納米管%化學鍍銅%穩定性
련속강류맥충발사%탄납미관%화학도동%은정성
continuous intense pulsed emission%carbon nanotubes%electroless plated Cu%stability
为了研究碳纳米管薄膜在强流连续多脉冲下的发射特性,采用酞菁铁高温热解方法在化学镀铜硅基底上生长了碳纳米管薄膜(Si/Cu-CNTs),作为强流脉冲发射阵列.在20 GW脉冲功率源系统中采用二极结构对Si/Cu-CNTs薄膜进行连续多脉冲高电流发射测试,结果表明:连续多脉冲情况下,峰值电场达到29.1 V/μm,发射电流密度为0.892 kA/cm2时,Si/Cu-CNTs薄膜仍具有良好的发射可重复性,连续发射的每个电流波形基本一致,发射稳定性好.
為瞭研究碳納米管薄膜在彊流連續多脈遲下的髮射特性,採用酞菁鐵高溫熱解方法在化學鍍銅硅基底上生長瞭碳納米管薄膜(Si/Cu-CNTs),作為彊流脈遲髮射陣列.在20 GW脈遲功率源繫統中採用二極結構對Si/Cu-CNTs薄膜進行連續多脈遲高電流髮射測試,結果錶明:連續多脈遲情況下,峰值電場達到29.1 V/μm,髮射電流密度為0.892 kA/cm2時,Si/Cu-CNTs薄膜仍具有良好的髮射可重複性,連續髮射的每箇電流波形基本一緻,髮射穩定性好.
위료연구탄납미관박막재강류련속다맥충하적발사특성,채용태정철고온열해방법재화학도동규기저상생장료탄납미관박막(Si/Cu-CNTs),작위강류맥충발사진렬.재20 GW맥충공솔원계통중채용이겁결구대Si/Cu-CNTs박막진행련속다맥충고전류발사측시,결과표명:련속다맥충정황하,봉치전장체도29.1 V/μm,발사전류밀도위0.892 kA/cm2시,Si/Cu-CNTs박막잉구유량호적발사가중복성,련속발사적매개전류파형기본일치,발사은정성호.
