中国钼业
中國鉬業
중국목업
CHINA MOLYBDENUM INDUSTRY
2014年
2期
43-46
,共4页
等离子喷涂%溅射靶材%制备
等離子噴塗%濺射靶材%製備
등리자분도%천사파재%제비
plasma spraying%sputtering targets%preparation
镀膜行业的快速发展对溅射靶材的大型化、利用率等提出了更高要求.但传统的靶材制备方法在靶材大型化方面存在很大局限.等离子喷涂技术可喷涂几乎所有的陶瓷、金属、金属化合物,在靶材制备领域有着巨大的应用潜力.本文重点介绍了目前溅射靶材主要制备方法及存在问题,并对等离子喷涂制备溅射靶材的特点及设备现状及发展方向进行了阐述.
鍍膜行業的快速髮展對濺射靶材的大型化、利用率等提齣瞭更高要求.但傳統的靶材製備方法在靶材大型化方麵存在很大跼限.等離子噴塗技術可噴塗幾乎所有的陶瓷、金屬、金屬化閤物,在靶材製備領域有著巨大的應用潛力.本文重點介紹瞭目前濺射靶材主要製備方法及存在問題,併對等離子噴塗製備濺射靶材的特點及設備現狀及髮展方嚮進行瞭闡述.
도막행업적쾌속발전대천사파재적대형화、이용솔등제출료경고요구.단전통적파재제비방법재파재대형화방면존재흔대국한.등리자분도기술가분도궤호소유적도자、금속、금속화합물,재파재제비영역유착거대적응용잠력.본문중점개소료목전천사파재주요제비방법급존재문제,병대등리자분도제비천사파재적특점급설비현상급발전방향진행료천술.
