用于成像系统的高矢高透镜阵列光刻技术
용우성상계통적고시고투경진렬광각기술
Fabrication of High Relief Depth Lens Array Used on Imaging Systems
  • 万方数据
    科学技术与工程 과학기술여공정
    SCIENCE TECHNOLOGY AND ENGINEERING
    2014年 20期 167-171 ,共5页

    张裕坤%张志友%杜惊雷%尹韶云%史立芳%邓启凌%董小春%杜春雷

    장유곤%장지우%두량뢰%윤소운%사립방%산계릉%동소춘%두춘뢰

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    시고%투경진렬%성상
    relief depth%lens array%imaging
    在移动掩模光刻技术的基础上,提出一种可用于成像系统的高矢高透镜阵列制备的二次光刻方法.二次光刻分别用于减小抗蚀剂表面粗糙度和借助移动掩模光刻制备高矢高透镜阵列.通过这种方法,制备了矢高254 μm的透镜阵列.透镜矢高约为传统移动掩模光刻技术制备透镜阵列矢高的二倍.进而,制备的透镜阵列被用于集成成像系统,获得了高质量的三维图像.这一结果很好地证明了此种二次光刻方法可用于成像系统高矢高透镜阵列的制备,具有较好的应用前景.
    재이동엄모광각기술적기출상,제출일충가용우성상계통적고시고투경진렬제비적이차광각방법.이차광각분별용우감소항식제표면조조도화차조이동엄모광각제비고시고투경진렬.통과저충방법,제비료시고254 μm적투경진렬.투경시고약위전통이동엄모광각기술제비투경진렬시고적이배.진이,제비적투경진렬피용우집성성상계통,획득료고질량적삼유도상.저일결과흔호지증명료차충이차광각방법가용우성상계통고시고투경진렬적제비,구유교호적응용전경.
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